Occasion EIKO IB-3 #293793575 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
EIKO IB-3 est un équipement photorésist de nouvelle génération conçu pour les photomasques bi-couche et tri-couche, et utilise une technologie de pointe dédiée pour assurer un alignement très précis et des performances d'exposition à haute sensibilité. Le système est capable de produire des photomasques mono, bi-couche et triple couche à l'aide d'une tête de balayage haute résolution avec une précision de 1 micron et une résolution de 0,55 nm. Il est également équipé d'un processeur de masque haute vitesse pour la mesure rapide des paramètres photomasques tels que les largeurs de ligne, l'uniformité et les trous de contact. De plus, son module de gravure à couches minces permet d'éliminer avec une grande précision les substances de résistance positive pour l'exposition et la gravure. En termes de précision, IB-3 peut produire de manière fiable des largeurs de ligne aussi petites que 0,2-0,3 microns, avec une stabilité d'exposition en temps réel intégrée de ± 100nm/5s. Sa capacité à produire des lignes de haute précision est encore renforcée par l'utilisation d'un panneau de faisceau qui peut contrôler la forme du faisceau lumineux tout en diminuant le temps d'exposition. La machine d'alignement automatisée de l'unité permet une mesure d'alignement très précise avec une précision de 0,1 micron, tandis que sa photorésist haute sensibilité est capable de produire de manière fiable des mises en page compliquées avec plusieurs couches. Enfin, EIKO IB-3 est très fiable, avec un taux de défaut « zéro », et est conçu avec des capacités autonomes pour en faire le choix idéal pour des processus de lithographie exigeants. Son interface graphique puissante mais facile à utiliser prend en charge toutes les étapes du processus de lithographie, et ses caractéristiques de traçabilité intégrées garantissent la précision des données. En outre, sa conception de service de maintenance avancée permet un entretien et une réparation faciles, garantissant ses performances fiables dans des environnements de production à haut volume.
Il n'y a pas encore de critiques