Occasion ELS TECHNOLOGY ELS 37604FA #9161434 à vendre en France

ELS TECHNOLOGY ELS 37604FA est un type d'équipement de photorésistance conçu pour permettre le développement d'une électronique et d'une microcircuiterie de haute qualité. C'est un système de photorésistance à couches minces et sèches, particulièrement adapté aux procédés de photolithographie nécessitant une exposition à faible dose et des performances ultimes. Cette unité de résistance utilise la chimie à haute performance du quinonediazide (HPR) pour obtenir efficacement des caractéristiques à haute résolution avec une exposition à faible dose. Pour ce faire, on utilise une chimie en vrac efficace pour le filmage, l'imagerie et les propriétés des procédés à basse température. La chimie HPR en ELS 37604FA lui permet d'atteindre de faibles tailles de caractéristiques minimales, plus que toute autre machine comparable. Lors de l'exposition à la lumière UV, ELS TECHNOLOGY ELS 37604FA résiste outil subit une amélioration Solubilisation-Ratio. Ceci améliore le contraste entre les parties exposées et les parties non exposées de la couche de résistance en couche mince. Cette amélioration permet à la résistance d'avoir une excellente sensibilité pour améliorer la netteté d'imagerie et les résultats de résolution de fonctionnalités. ELS 37604FA présente une excellente stabilité de procédé sur une large gamme de procédés lithographiques standard, car il a une température de traitement basse et résiste aux effets de la cuisson prolongée. De plus, l'actif photorésistant à couches minces présente une résistance à la gravure élevée et une excellente adhérence, ce qui contribue à améliorer le rendement global et la fiabilité du dispositif. En termes de composition des matériaux, ELS TECHNOLOGY ELS 37604FA possède une chimie modifiée par des polymères contenant un principe photoactif quinonediazide avancé. Cela le rend idéal pour la réplication de circuits extrêmement complexes et complexes, et la résolution améliorée offerte par le modèle aide à créer des produits plus efficaces. L'équipement ELS 37604FA resist est adapté à une gamme de produits électroniques différents, des cartes de circuits imprimés aux MEMS et aux capteurs. Sa stabilité sur un large éventail de processus lithographiques assure des résultats fiables et de haute qualité à chaque fois. En outre, ce système offre une alternative très économique aux autres matériaux photorésistants, ce qui en fait un excellent choix pour ceux qui recherchent une solution fiable et rentable.