Occasion ELS TECHNOLOGY ELS3604FA #9156774 à vendre en France

ELS TECHNOLOGY ELS3604FA L'équipement photorésist est un système de pointe pour les processus de photolithographie. Cette unité est adaptée à un large éventail d'applications, y compris la fabrication de dispositifs IC en ligne fine, les processus de métallisation et de passivation de petites et grandes surfaces. Cette machine dispose de quatre canaux optiques et de quatre systèmes de contrôle indépendants qui peuvent contrôler indépendamment les paramètres d'exposition comme la puissance d'exposition, le temps d'exposition et la position de focalisation. L'outil dispose également d'un étage laser 4x4, d'une tête d'exposition à 4 canaux et d'un atout d'imagerie verticalement intégré. ELS3604FA dispose d'une résolution HD complète, et d'une large gamme de facteurs de grossissement jusqu'à 1500x. Il peut atteindre des résolutions d'exposition allant jusqu'à 1 micron et des temps d'exposition allant jusqu'à 30 minutes. Il dispose également de deux sources laser « M1 » et « M2 », avec des longueurs d'onde de 532nm et 405nm, et peut fonctionner dans les deux modes d'exposition additive et soustractive. Le modèle utilise également un équipement de revêtement photorésist à base de liquide, de sorte que les revêtements peuvent être adaptés à une variété de substrats et d'applications. ELS TECHNOLOGY ELS3604FA est très précis et reproductible. Ses étapes motorisées et son système d'automatisation garantissent des résultats reproductibles et précis, permettant un meilleur contrôle du débit et de la qualité. De plus, son unité de vision intégrée garantit que l'alignement et les contrôles des dimensions critiques peuvent être effectués rapidement et avec précision, améliorant ainsi la productivité. La machine dispose également de plusieurs fonctionnalités avancées, telles que la capacité de produire des champs d'exposition continus et de chevaucher des champs d'exposition multiples pour de plus grands substrats, une profondeur de focalisation accrue, et une fonctionnalité « Molecular Photomask » qui peut fournir un contrôle précis des modèles d'exposition. En conclusion, ELS3604FA L'outil Photoresist est un atout de pointe adapté à de nombreux processus de photolithographie. Ses fonctionnalités automatisées et précises permettent un traitement efficace et précis, garantissant des résultats reproductibles et de haute qualité.