Occasion ETS / LINDGREN ETN-1100-110 #9078435 à vendre en France

L'équipement photorésist ETS/LINDGREN ETN-1100-110 est un système de lithographie de haute précision et à la fine pointe de la technologie conçu pour la fabrication de masques à plusieurs niveaux et les applications d'emballage microélectronique. L'unité est capable d'exposer des motifs sur des couches photorésistantes avec une résolution pouvant atteindre 10 000 nanomètres par caractéristique. Il utilise une diode laser classique de 405 nanomètres comme source de lumière, ainsi qu'un certain nombre de composants optiques précis, permettant une génération de motifs fiable et cohérente. La machine ETS ETN-1100-110 dispose de deux masques qui peuvent être utilisés pour transférer un photomasque sur le substrat. La conception haute précision de l'outil intègre un actif de balayage de précision contrôlé par ordinateur, permettant une gamme complète de paramètres d'exposition, y compris l'indexation, le balayage sur le terrain et le placement des motifs. Le modèle permet à l'utilisateur de sélectionner toute gamme de champs et de tailles de fonctionnalités de 10 à 10 000 nanomètres de diamètre. L'équipement dispose également d'un puissant élément optique personnalisation et des caractéristiques d'alignement qui aident à assurer la précision et la précision pendant le processus de fabrication du masque. LINDGREN ETN-1100-110 peut être programmé pour la réplication de motifs complexes, permettant une large gamme d'applications, y compris les cartes de circuits imprimés, les schémas de câblage et les circuits intégrés complexes. En plus de ces fonctionnalités, ETN-1100-110 comprend des capacités automatiques d'alignement transparent (AT), conçues pour assurer la précision et la répétabilité de l'alignement lors de la création de modèles exquis pour les masques multi-niveaux. Le système TA comprend une étape d'alignement et une étape motorisée qui positionnent avec précision la photomasque avant l'exposition. Pour assurer un fonctionnement optimal de l'unité, ETS/LINDGREN ETN-1100-110 comprend des fonctions sophistiquées de contrôle des processus et des diagnostics, ainsi que des dispositifs de protection de l'environnement et de la sécurité de pointe. La machine comprend un outil d'interception conçu pour empêcher le personnel d'entrer dans l'outil pendant le fonctionnement. Supplémentairement, ETS ETN-1100-110 inclut un certain nombre de traits de sécurité supplémentaires, en incluant une politique « aucune porte ouverte », verres de sécurité, vêtements protecteurs et alarmes de sécurité. En résumé, LINDGREN ETN-1100-110 est un actif photorésist robuste et fiable conçu pour la fabrication de masques de haute précision et l'emballage microélectronique. C'est l'outil parfait pour concevoir une large gamme de motifs sur des couches photorésistantes avec une résolution allant jusqu'à 10 000 nanomètres et dispose d'une puissante personnalisation et alignement des éléments optiques ainsi que des capacités TA automatisées. Le modèle comprend également un certain nombre de caractéristiques de sécurité et de fonctions sophistiquées de contrôle des processus, permettant son utilisation sûre et efficace.