Occasion EVG / EV GROUP 101 #293590409 à vendre en France

EVG/EV GROUP 101 Photoresist Equipment est un système de lithographie évoluée modulaire utilisé dans la production de semi-conducteurs et d'autres composants microélectroniques. L'unité combine la correction optique de proximité (OPC) avec des capacités de conception avancées pour produire des films à motifs précis avec une qualité d'image supérieure. La machine utilise diverses étapes d'exposition lithographique et de traitement post-exposition pour créer et développer des motifs sur les films. La conception modulaire permet d'adapter l'outil aux besoins d'un projet particulier. Les composants de base comprennent un module d'optique, un module d'exposition, un module de contrôle des actifs et un logiciel. Le module optique se compose d'une lentille de projection de précision, d'une fente d'exposition et d'une colonne de vide. Ce module est utilisé pour projeter le motif sur le milieu d'exposition. Le module d'exposition utilise une lampe à arc de mercure de haute intensité pour fournir l'énergie d'exposition. Un contrôleur de dose d'exposition et le transport aident à délivrer l'exposition au milieu. Le module de contrôle du modèle est le cerveau de l'opération, contrôlant tous les films exposés. Il dispose également d'options pré-configurées pour exposer des types de matériaux particuliers. Une variété d'applications logicielles sont disponibles pour la conception de modèles, la simulation et l'optimisation, ainsi que le traitement post-exposition. L'équipement photorésist permet également l'exposition automatique de couches multiples, permettant son utilisation dans la production de composants microélectroniques complexes. La conception modulaire, avec sa haute qualité optique, permet au système de produire d'excellents niveaux de résolution sub-micron et géométries critiques, avec une bonne uniformité et une topographie nette. L'unité est conçue pour être extrêmement conviviale et permet un faible coût de production, des rendements élevés, et la flexibilité pour s'adapter aux technologies exigeantes. C'est une partie essentielle du processus de lithographie pour produire une variété de composants microélectroniques. Avec son haut degré de précision, sa flexibilité et son interface conviviale, la Photoresist Machine EVG 101 est un excellent choix pour tout fabricant de composants microélectroniques.