Occasion EVG / EV GROUP 101 #293590418 à vendre en France

L'équipement de photorésistance EVG/EV GROUP 101 est un système de traitement chimique de pointe utilisé pour la gravure de films métalliques sur substrats. L'unité utilise une combinaison de techniques avancées d'optique, de faisceau d'électrons et de produits chimiques pour produire des motifs dans une large gamme de films et substrats métalliques avec une capacité de haute résolution. La photorésistance EVG 101 est conçue pour obtenir une grande précision lors du dépôt de films métalliques sur des substrats. Divers métaux peuvent être déposés à différentes épaisseurs, et l'outil a la capacité de régler les propriétés de gravure en fonction des caractéristiques de chaque substrat. Par exemple, pour un seul substrat, les caractéristiques optiques de l'actif photorésist peuvent être ajustées pour différentes épaisseurs de dépôt métallique de manière à créer des motifs de taille spécifique. Le modèle EV GROUP 101 utilise des procédés avancés pour la modélisation à haute résolution. La technologie de lithographie par faisceau d'électrons (EBL) de l'équipement de photorésistance applique un faisceau d'électrons finement accordé qui peut tracer des motifs de formes et de tailles variables sur le substrat. Le système utilise alors un matériau photorésistant pour structurer le film métallique afin de créer un motif désiré. Les matériaux photorésistants sont d'abord appliqués en couche mince sur le substrat, puis soumis à des doses d'exposition variables, selon les besoins du motif désiré. Une fois exposé, le matériau photorésist développé agit comme un masque que l'unité EBL peut utiliser pour transférer la forme du motif désiré sur le substrat. Ce processus d'exposition et de développement finit par créer un motif de forme prédéterminée sur le substrat désiré. 101 fournit également une méthode efficace de gravure. Après avoir tracé les motifs désirés sur le substrat, l'outil utilise un procédé de gravure pour éliminer physiquement les parties indésirables du film. Le procédé de gravure est entraíné par les forces chimiques entre le matériau photorésistant et le film métallique, la différence de résistivité électrique interne au substrat, ou la présence de divers ions dans le substrat. Ces forces chimiques interagissent pour éliminer les parties du film qui n'étaient pas recouvertes par le matériau photorésist, afin de créer le motif final. L'actif photorésist EVG/EV GROUP 101 est un outil efficace pour produire des motifs très précis et complexes dans un large spectre de films et substrats métalliques. La combinaison de techniques optiques, électroniques et chimiques de pointe rend le modèle polyvalent adapté à de nombreuses applications dans les secteurs des semi-conducteurs, de la microélectronique et des industries connexes.