Occasion EVG / EV GROUP 101 #293657969 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293657969
Taille de la plaquette: 4"-6"
Spray coater, 4"-6"
Semi automatic with manual loading
Suitable for wafer sizes, 3"-8" (With proper chuck)
Coat module
Manual loading and mechanical pre-aligner (Pneumatically actuated)
Password protected access levels
PTFE Coat chamber for spin coating
Programmable rotational speed for substrate
Programmable arm for resist dispense and topside EBR
Cybor pump
(2) Solvents for external chemical cabinet
Previously used chemistry: 1813, 1827, Acetone and IPA
Hotplate
Resist processing module:
All electronics
Pneumatics
Tubing for solvents
Drain or dump container
Exhaust lines
Syringe dispense option
Operations manual and documentation.
EVG/EV GROUP 101 est un équipement photorésistant conçu pour être utilisé dans les industries des semi-conducteurs. Le système est conçu pour permettre la gravure précise de couches minces de matériaux sur des plaquettes. La gravure est réalisée à l'aide d'un procédé de masquage photorésist. Ce processus fonctionne en exposant la plaquette à un motif de lumière. La source de lumière fait durcir un revêtement de résine photosensible dans les zones où la lumière est exposée, tandis que dans les autres zones, elle reste douce. Ce matériau doux peut alors être facilement gravé pour créer un motif sur la plaquette. L'unité de photorésistance EVG 101 comprend un certain nombre de composants. La machine commence par une source lumineuse qui est utilisée pour jeter un motif de lumière sur la plaquette. Cette source lumineuse peut être un laser, un réseau de diodes électroluminescentes (LED) de haute intensité, ou tout autre dispositif capable de fournir un motif lumineux précis. Un photomasque est alors utilisé pour bloquer sélectivement la lumière d'atteindre certaines zones de la plaquette. Cela crée un motif pour la gravure. L'étape suivante du procédé est l'application d'une photorésist sur la plaquette. Cette résine photosensible est un mince film de matériau qui va revêtir la plaquette et la protéger du processus de gravure. Il durcit dans les zones exposées au motif de lumière, tout en restant doux ou gravable dans les zones bloquées par le masque. Différents photorésistes peuvent être utilisés selon le type de matériau à graver. L'outil de photorésistance EV GROUP 101 comprend également une station de réaction de la photorésist. Cette station est conçue pour fournir un environnement contrôlé à la résine photosensible. Il se compose d'une chambre à vide, de moyens de régulation de la température et d'une source de lumière UV pour activer la résine photosensible. Le modèle est également livré avec une station laser qui est utilisé pour créer le photomasque. Cette station laser fonctionne en projetant un motif de lumière sur un masque, puis en gravant les zones exposées à la lumière. Le photomasque peut être utilisé plusieurs fois pour créer le même motif sur d'autres plaquettes. Le dernier composant de 101 appareils de photorésistance est une station de gravure. C'est là que le processus de gravure est effectué. Le procédé de gravure est effectué à l'aide d'une combinaison d'une chambre à vide et de traitements chimiques. Le système photorésist EVG/EV GROUP 101 est essentiel pour créer des motifs précis sur les plaquettes utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs. L'unité permet un contrôle précis des motifs et d'excellents résultats. La machine est également facile à utiliser et peut être exploitée par du personnel même inexpérimenté. Pour ces raisons, l'outil de photorésistance EVG 101 reste un choix populaire pour de nombreux fabricants de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques