Occasion EVG / EV GROUP 101 #293749961 à vendre en France

EVG/EV GROUP 101 est un équipement de photorésistance polyvalent et sophistiqué conçu pour répondre aux besoins de la photolithographie moderne. Il est basé sur un principe de gravure par faisceau d'électrons, ion réactif (également appelé E-Beam) pour déposer avec précision et précision des couches très minces de photorésist sur différents substrats. Le système est conçu pour fournir des capacités de gravure fiables et cohérentes pour une gamme d'applications et de besoins. L'unité EVG 101 se compose d'un canon, d'un microscope et d'un générateur pour le faisceau d'électrons. Le faisceau d'électrons est créé par le canon, qui est monté sur le dessus de la machine et contient une alimentation électrique du canon à électrons et une chambre à vide. A l'intérieur de la chambre à vide, les électrons sont manipulés et focalisés sur le masque, qui maintient le motif de la résine photosensible. Le microscope permet un alignement et un balayage précis du faisceau d'électrons. La résine photosensible est appliquée sur le substrat (généralement une plaquette) à travers le faisceau d'électrons avant d'être exposée aux produits chimiques du révélateur et du réticulateur. Ces deux procédés, appelés respectivement photodéposition et photodégradation, forment la photorésist finie qui est ensuite appliquée sur la plaquette. Pendant le processus E-Beam, le pistolet est manipulé et déplacé dans un mouvement semblable à un arc. Ce mouvement de type arc est connu sous le nom de Vortex Motion, et il permet au faisceau d'être à la fois rapide et précis dans son balayage du substrat, permettant des résultats de gravure précis et propres. Le faisceau est contrôlé en continu par un logiciel informatique, et tout le processus est surveillé attentivement. Le procédé de dépôt de photorésist permet un dépôt multicouche de couche de photorésist à haute résolution. Il est également capable de combiner différentes couches de résines, permettant la fabrication de motifs très fins (microscales). De plus, l'outil est capable de graver et de gainer directement des trous traversants et diverses autres structures, ainsi que de fournir un motif de haute résolution pour la métallisation fonctionnelle. EV GROUP 101 est une plateforme fiable et rentable pour des processus de photolithographie avancés. Ses capacités de haute résolution, sa construction durable et son faisceau d'électrons hautement contrôlables en font un modèle photorésist fiable et polyvalent pour une variété de besoins de production avancés.