Occasion EVG / EV GROUP 101 #9229818 à vendre en France

L'équipement de photorésistance EVG/EV GROUP 101 est un système de lithographie de haute précision utilisé dans l'industrie de la production de photomasques et de lithographies. Il est conçu pour effectuer des opérations photorésistantes précises, uniformes et répétables sur des plaquettes minces, fournissant un outil idéal pour la fabrication de microfabrication et de dispositifs semi-conducteurs. EVG 101 est une unité d'imagerie sophistiquée alimentée par une construction à axes divisés multi-axes. La machine est constituée d'une section de couverture, d'une section de traitement de substrat et d'une section d'imagerie optique. La section de couverture comprend une chambre de nettoyage et de revêtement de couverture, un étage de substrat multi-axes, un séparateur de poutre et un outil d'alignement de motif. La section de traitement du substrat comprend une chambre de pré-revêtement, un réservoir monomère pré-enduit, une chambre de chargement, une station de cuisson souple, une station d'exposition, une station de post-cuisson et une station de développement. La section d'imagerie optique se compose de sources lumineuses à double laser, de diffuseurs optiques et de réticules. L'actif photorésist EV GROUP 101 est capable d'opérations d'imagerie de haute précision telles que la lithographie de projection, l'étape de projection optique et la lithographie laser excimère. Le modèle dispose de processus d'imagerie hautement automatisés incluant le pré-revêtement, l'alignement des motifs, l'exposition, la post-cuisson, le développement et plusieurs modes d'imagerie passe. Lors de l'imagerie, des algorithmes d'inspection avancés peuvent être utilisés pour analyser l'uniformité et la précision des motifs sur le substrat. Cet équipement peut également se concentrer sur de très petites fonctionnalités avec une résolution extrêmement fine. De plus, le système est conçu pour traiter des substrats d'une taille de filière allant jusqu'à 350 mm. 101 est une unité robuste et fiable qui est conçue pour des exigences de production strictes. Il est compatible avec une variété de matériaux photorésistants, permettant un traitement optimal des substrats pour une gamme d'applications. La machine peut également être intégrée à des techniques avancées telles que la planarisation chimico-mécanique, le revêtement par pulvérisation et l'auto-assemblage moléculaire. L'outil de photorésistance EVG/EV GROUP 101 offre aux utilisateurs des performances et une flexibilité exceptionnelles. Il permet la production efficace et précise de photomasques de précision et de plaquettes minces pour diverses applications, ce qui en fait un choix idéal pour les opérations de lithographie de haute précision.