Occasion EVG / EV GROUP 101 #9283636 à vendre en France

EVG/EV GROUP 101 est un équipement de photorésistance utilisé pour la lithographie avancée qui permet la fabrication directe de motifs complexes sur des matériaux semi-conducteurs. Ce système permet le développement de produits électroniques plus performants et plus petits en facilitant la mise en forme précise des caractéristiques des semi-conducteurs. L'unité EVG 101 est une technologie de photorésistance avancée qui permet une ablation de pas raide et évite les résidus de flanc lors de la gravure de micro-motifs dans des matériaux semi-conducteurs. Il utilise une combinaison de faisceau électronique et d'exposition optique et de lithographie pour obtenir une résolution et une structure optimales. Le faisceau e qui est utilisé par EV GROUP 101 permet le contrôle fin de la dose et du brassage avec des niveaux de résolution élevés. En outre, il a la capacité de façonner des motifs bidimensionnels (2D) définis par des commandes logicielles. La machine utilise également l'optique pour focaliser le processus de lithographie et s'assurer que les motifs sont bien formés. En utilisant une combinaison du faisceau électronique et de l'exposition optique pour la lithographie, 101 produit des motifs avec une précision et une précision dimensionnelles supérieures. En outre, la fonction d'assistance à la sous-résolution intégrée (SRAF) de l'outil peut améliorer la résolution des motifs et éliminer les angles coniques. De plus, EVG/EV GROUP 101 offre une solution efficace pour la fixation de rapports d'aspect élevés, permettant la formation de rapports d'aspect élevés jusqu'à 1:1. L'actif permet également le cuivre pour des structures plus petites. Le modèle avancé EVG 101 photoresist peut être utilisé pour fabriquer une grande variété de produits, allant de la micro-électronique sophistiquée aux dispositifs biomédicaux. C'est une solution très efficace et rentable pour produire des motifs complexes avec une grande précision dans l'industrie des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, l'équipement de photorésistance EV GROUP 101 est un outil puissant pour produire des caractéristiques complexes avec une précision et une résolution supérieures. Ce système avancé permet de réaliser et de graver de petites caractéristiques de haute précision, ce qui permet la fabrication de produits électroniques plus performants et plus petits.