Occasion EVG / EV GROUP 105 #9197310 à vendre en France

EVG/EV GROUP 105 est un équipement de photorésistance conçu pour une utilisation industrielle. C'est un système semi-automatisé qui utilise la technologie optique de pointe et la science des matériaux pour fournir un outil de photorésistance fiable et très avancé pour les applications avancées de lithographie. Cette unité est couramment utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour résister au traitement, au masquage de substrat et à la fermentation. EVG 105 utilise un masque photo de pointe pour créer des motifs lithographiques précis et précis. La qualité du motif est considérablement améliorée en utilisant un réseau de diodes linéaires et un angle de projection de lumière optimisé. De plus, la machine est capable de modeler plusieurs couches en un seul processus, ce qui réduit considérablement le temps et le coût de traitement. EV GROUP 105 utilise un outil à deux plaques qui permet une flexibilité et un traitement fiable pour une variété de résistances. La plaque supérieure est semi-transparente et permet le transfert précis d'un motif du masque au film de résistance. Le substrat est ensuite placé sur la plaque inférieure, et une pression est appliquée pour assurer une répartition uniforme et un transfert précis du motif. Cet atout dispose également d'une caméra externe à microscope 4x qui permet une meilleure précision d'alignement pendant le processus d'exposition. Le modèle est hautement configurable et dispose d'une large gamme d'options logicielles pour répondre à diverses exigences. La capacité optique imprimée supporte diverses épaisseurs de film allant d'une largeur de ligne de 15nm à au moins une taille de 0,25 m. L'équipement est également compatible avec une variété de matériaux de résistance des principaux fournisseurs. Une interface graphique intégrée et conviviale permet un fonctionnement facile et intuitif. 105 est conçu pour augmenter le débit et la qualité de la production tout en réduisant les coûts de fabrication. Le système est capable d'une répétabilité, précision et débit élevés, ce qui le rend idéal pour les industries avec des volumes de production élevés. L'unité est également construite en ayant à l'esprit la maintenance et la fonctionnalité, et est conçue pour être facilement entretenue afin d'éviter les temps d'arrêt. Dans l'ensemble, EVG/EV GROUP 105 est une machine de photorésistance fiable et avancée. Il combine une technologie optique et de science des matériaux innovante pour une lithographie facile et efficace avec une répétabilité et un débit inégalés. L'outil est conçu pour répondre aux exigences les plus élevées de volume de production et de qualité, et fournit une solution fiable pour la lithographie.