Occasion EVG / EV GROUP 105 #9245282 à vendre en France

EVG/EV GROUP 105 est un équipement de photorésistance pour la fabrication de masques semi-conducteurs, l'emballage au niveau des plaquettes et d'autres applications avancées de lithographie. Ce système est conçu pour fournir un traitement lithographique de haute précision et de précision, tout en protégeant les meurtrières délicates de l'exposition à des sources d'énergie intenses. Ses caractéristiques avancées comprennent une unité autofocus pour des performances d'imagerie robustes, une technologie brevetée sans contact pour réduire le mouvement des plaquettes pour une meilleure précision et un meilleur débit, et un scanner d'alignement tridimensionnel intégré pour une meilleure superposition et précision. La machine EVG 105 peut être configurée pour divers procédés de photorésistance, y compris l'exposition aux ultraviolets (UV), la photolithographie, la gravure et le dépôt. Il utilise des lasers UV de haute puissance, tels que les sources KrF (248nm) et ArF (193nm), ainsi que des optiques de pointe pour améliorer la précision du processus. L'outil comprend une optique haute résolution et peu défectueuse pour maximiser la résolution photo-image. Pour améliorer la clarté de l'image, l'actif est équipé d'outils sophistiqués de vérification de la résolution de l'image, tels que l'analyse de la fonction d'étalement des points. L'algorithme avancé et très sensible de reconnaissance des motifs du modèle pour l'alignement au niveau de la matrice minimise également les désalignements et permet d'améliorer les résultats dans les formes difficiles de reconnaissance des motifs. L'équipement est en outre équipé de logiciels de pointe et de capacités d'automatisation avancées, permettant un traitement rapide, un meilleur débit et un rendement élevé. EV GROUP 105 dispose d'un système intégré et hautement configurable de manutention des plaquettes qui permet un chargement et un déchargement rapides et précis des plaquettes, ainsi que des solutions de stockage sécurisées. Il comprend également un chariot de transport de plaquettes à usage général afin de réduire les frais généraux et d'assurer la sécurité du transport des plaquettes à destination et en provenance de l'unité. La machine est équipée de plusieurs dispositifs de sécurité, dont un outil de refroidissement à air actif, une lampe halogène, un système de refroidissement par gaz actif et un modèle d'arrêt d'urgence (Cassavant). Toutes ces caractéristiques sont conçues pour assurer le bon fonctionnement et la sécurité maximale de l'équipement ainsi que des échantillons et du personnel en service. En conclusion, 105 photorésist system est une solution puissante, de haute qualité et précise pour la fabrication de masques semi-conducteurs, l'emballage au niveau des plaquettes et d'autres applications avancées de lithographie. Il offre une gamme robuste de fonctionnalités, y compris l'optique avancée, l'autofocus, et des algorithmes intégrés de reconnaissance de motifs, pour améliorer les performances. En outre, une gamme de dispositifs de sécurité assurent la tranquillité d'esprit nécessaire aux opérations de lithographie de précision.