Occasion EVG / EV GROUP 120 #293590417 à vendre en France
URL copiée avec succès !
EVG/EV GROUP 120 est un équipement de lithographie conçu pour la nanolithographie et le traitement des plaquettes. Il utilise un procédé de photorésist pour former des motifs nanométriques à la surface d'une plaquette. Le système utilise des plaquettes revêtues de résiste à faible entretien, à faible puissance et à haut rendement. L'unité intégrée de contrôle des processus et la machine d'imagerie fournissent l'imagerie haute résolution, le positionnement à l'échelle nanométrique et le traitement automatisé. EVG 120 commence par une plaquette revêtue de résine photosensible. La photorésist est un matériau sensible à la lumière, et lorsqu'elle est exposée à la lumière de longueurs d'onde et d'intensités spécifiques, la photorésist est durcie. Par un processus de photorésist étape-et-répétition, des motifs sont formés à la surface de la plaquette au fur et à mesure que la photorésist est durcie. Le processus est contrôlé par l'outil de contrôle du processus qui contrôle l'exposition de la source laser pour créer le motif désiré sur la plaquette. L'actif d'imagerie intégrée utilise un microscope optique à haute résolution et des techniques d'imagerie avancées, telles que les microscopes électroniques à balayage et les microscopes à force atomique, pour inspecter la plaquette pour détecter les défauts et s'assurer que la plaquette a été traitée avec précision. EV GROUP 120 dispose également d'un modèle d'alignement et de traitement automatisé, qui permet des performances précises et répétables du processus photorésist à motifs. L'équipement automatisé réduit également le risque d'erreur humaine lors du traitement photorésist, permettant un traitement cohérent avec une variation minimale du résultat final. 120 comprend également un système de sécurité innovant qui utilise une combinaison de capteurs et de dispositifs matériels pour surveiller l'environnement et alerter l'opérateur si une condition de traitement ne correspond pas aux paramètres spécifiés. Cela permet de réduire les risques potentiels pour la machine et le personnel. En conclusion, EVG/EV GROUP 120 est une unité de lithographie photorésistante conçue pour la nanolithographie et le traitement des plaquettes. Il utilise un procédé de photorésist pour former des motifs nanométriques à la surface d'une plaquette. La machine de contrôle de processus intégrée et l'outil d'imagerie fournissent l'imagerie haute résolution, le positionnement à l'échelle nanométrique et le traitement automatisé. L'actif comprend également un modèle automatisé d'alignement et de traitement, ainsi qu'un équipement de sécurité innovant qui permet de minimiser les risques potentiels associés au processus.
Il n'y a pas encore de critiques