Occasion EVG / EV GROUP 120 #293595254 à vendre en France

L'équipement de photorésistance EVG/EV GROUP 120 est un outil de lithographie clé en main modulaire qui fournit une puissance de précision avancée pour les applications avancées de nano-fabrication. Cet outil dispose d'une unité d'évaporateur à vide élevé remplaçable avec jusqu'à 12 substrats indépendants et jusqu'à deux éléments optiques parallèles. Sa modularité permet un traitement de haute précision et de puissantes capacités de fixation. Le système EVG 120 utilise des composants optiques et physiques avancés pour fournir une large gamme d'options de lithographie, y compris des développeurs de photorésist positif et négatif et de photomasking haute résolution. Il permet l'utilisation de divers matériaux et substrats de masque, y compris des masques optiques de niveau submicronique et une gamme de substrats incluant le silicium, le verre, le saphir, le quartz, les métaux et les matériaux organiques. L'unité utilise un traitement parallèle complet, permettant une rotation rapide du substrat et une ombrage avancé. La machine offre également une optimisation à haut débit, permettant des paramètres de processus définis par l'utilisateur, un positionnement automatisé et une automatisation avancée. L'outil comprend également un étalonnage avancé défini par l'utilisateur, permettant des résultats précis et reproductibles. Cet actif offre également des capacités de contrôle avancées et des systèmes de surveillance, y compris l'enregistrement des données, ce qui permet d'améliorer le contrôle des processus et l'assurance de la qualité. L'interface graphique avancée et conviviale d'EV GROUP 120 offre un accès rapide à la configuration, au contrôle des paramètres de processus et à la surveillance en temps réel. Ce modèle permet également le développement d'ensembles de données sur les recettes et la possibilité de stocker et de rappeler les recettes en mémoire. La conception de l'équipement permet l'intégration d'autres modules de processus, apportant une variété de capacités dans le système. Avec son large éventail de capacités de lithographie avancées, 120 unités de photorésistance est la solution idéale pour les tâches de recherche et développement, de production et de prototypage. Cette machine offre un contrôle précis des processus et une optimisation à haut débit, ce qui la rend idéale pour les applications avancées de nano-fabrication.