Occasion EVG / EV GROUP 120 #293651179 à vendre en France

EVG/EV GROUP 120 est un équipement de photorésistance utilisé dans les procédés de photolithographie pour une large gamme d'applications de précision. La photolithographie est un procédé de gravure de motifs dans un substrat (tel qu'une plaquette de silicium) avec utilisation d'un matériau photosensible appelé photorésist. Le système de photorésistance EVG 120 combine les performances des équipements avancés de lithographie avec la convivialité d'une plateforme automatisée pour gérer efficacement des processus de photolithographie complexes. L'unité de photorésistance EV GROUP 120 comprend une plate-forme d'imagerie à moyenne résolution qui supporte des tailles de lot de une à 200 plaquettes avec une dimension maximale de plaquette de 200mm. La machine utilise une optique avancée, y compris un aligneur de masque intégré, pour exposer des motifs sur des plaquettes jusqu'à 6 pouces de diamètre. L'alignement des plaquettes de haute précision est obtenu avec un étage de résolution submicronique et une précision de recouvrement inférieure à 0,2 μ m. L'outil est capable de positionner, de modéliser et de balayer le faisceau traversant avec un mouvement d'étage laser ou assisté par laser UV. Il est capable d'exposer des régions non uniformément dopées, des techniques de pointe comme la superposition de points chauds et le débit le plus élevé possible. L'actif photorésist dispose d'un module automatisé de traitement de photorésist pour une métrologie précise et une qualité de surface de substrat. Il commande la plaquette revêtue de résine avant et après exposition pour créer un motif de résistance précis et uniforme. Le module permet également un contrôle précis de la température de la résine photosensible, de la profondeur d'exposition et de la concentration de résistance. Le modèle comprend également des développeurs en une seule étape qui offrent un contrôle de l'épaisseur de résistance précis, une résolution latérale précise et une faible variation. Les développeurs sont conçus pour être compatibles avec tous les photorésistes, avec un module dynamique propre qui effectue la détection de point final et élimine la résistance indésirable. L'équipement intégré d'enlèvement des bourrelets assure des bords de substrat propres et supprime toute résistance restante. 120 est conçu avec un faible impact environnemental en tête, fournissant un système compact et efficace avec une plage de température de fonctionnement de 20 à 55 ° C, permettant une consommation réduite de puissance et de ressources. Toutes ces caractéristiques font de l'unité de photorésistance EVG/EV GROUP 120 un choix idéal pour les processus de photolithographie nécessitant une fabrication précise, efficace et peu coûteuse.