Occasion EVG / EV GROUP 120 #293830309 à vendre en France
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ID: 293830309
Taille de la plaquette: 6"-8"
Style Vintage: 2015
Automated coater processing system, 6"-8"
2015 vintage.
EVG/EV GROUP 120 est un équipement de photorésistance d'EVG, couramment utilisé dans le traitement au niveau des plaquettes pour dispositifs nanométriques. Il est idéal pour les emballages avancés de niveau wafer, 3D-integration, MEMS/MOEMS, microfluidique, traitement photomask et autres applications connexes. L'EVG 120 dispose d'un système d'exposition des plaquettes descendantes de 12 pouces avec une taille de champ de 180 mm x 300 mm. Il peut traiter des masques chrome sur quartz jusqu'à 200 millimètres de diamètre. L'unité contrôle la position de l'optique de projection, l'agrandissement et la direction d'imagerie, offrant une flexibilité et une précision optimales. L'optique de projection a un taux de transmission élevé > 85 %, ce qui le rend capable de résoudre des structures avec des caractéristiques de faible contraste jusqu'à 0,3 microns. La machine est également capable de produire des dispositifs à haut débit et rentables, car elle est résistante aux contraintes thermiques liées à l'exposition à des réglages de puissance élevée et présente des gaz de sortie très faibles. En conséquence, la résolution d'imagerie offerte et les temps de débit sont beaucoup plus grands que les systèmes comparables, ce qui le rend idéal pour une production à haut volume. En outre, l'outil dispose de plusieurs fonctionnalités intégrées qui le rendent très fiable et convivial. En plus des systèmes de contrôle complexes, EV GROUP 120 dispose de capteurs très sensibles pour garantir un alignement précis et des taux de répétition des plaquettes. L'actif utilise également une couche d'alignement de masque au niveau du modèle, qui assure une imagerie cohérente dans les directions x et y, éliminant les erreurs d'exposition non corrigeables. L'équipement est conçu pour maintenir un rapport dichroïque minimal de 8 pour les masques à quartz, assurant une imagerie claire des structures même des sous-microns. Outre cela, le système dispose également d'une opération propre avec une opération sans CDA. Cela élimine essentiellement la nécessité de réutiliser des produits chimiques nocifs. 120 est actuellement l'un des systèmes photorésistants les plus fiables et les plus avancés d'EV GROUP, offrant une résolution, une précision, un débit et un rapport coût-efficacité maximaux pour les applications au niveau des plaquettes.
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