Occasion EVG / EV GROUP 150 #293615061 à vendre en France

EVG/EV GROUP 150 L'équipement photorésist est un système de développement de photorésist de pointe qui permet un transfert rapide des motifs de photorésist vers les substrats. Il est conçu pour des applications commerciales et semi-conductrices, et offre les caractéristiques avancées nécessaires pour des revêtements de résistance précis et la fixation. L'unité EVG 150 combine la flexibilité d'un applicateur de film avec la précision d'un stepper. Il est très adaptable, car il est capable de travailler avec une variété d'épaisseurs de résistances, de pas de motifs et de substrats. La machine a une gamme de capacités de traitement, et comprend le revêtement, le placement de la mémoire, l'exposition, le développement, et d'autres étapes post-processus. L'outil photorésist est équipé d'un mécanisme unique de transport de bande et de métrologie à courroie qui le rend capable de créer un revêtement de résistance uniforme de haute qualité sur de grandes surfaces rapidement et uniformément. L'actif est composé de trois composantes : un four, une chambre de transfert et un modèle d'exposition. Le four est utilisé pour préchauffer le substrat afin de faciliter la résistance au revêtement et à la fermentation. La chambre de transfert contient le mécanisme de transport de bande, qui ajoute une couche de résistance au substrat. L'équipement d'exposition focalise la lumière UV sur le motif de résistance, qui est ensuite développé pour créer l'image désirée. Le système a un certain nombre de caractéristiques conçues pour assurer des résultats de haute précision. Par exemple, l'étage XY est conçu avec un codeur haute résolution, qui permet de placer avec précision des motifs de résistance sur des substrats. Le logiciel utilise des algorithmes puissants et le placement autonome de motifs qui peuvent compenser les tolérances et les variations de processus. De plus, l'unité est équipée d'une machine brevetée de vérification de superposition des motifs, qui utilise la technologie d'imagerie pour évaluer la fidélité des motifs. L'outil de photorésistance EV GROUP 150 est un outil puissant pour créer des motifs finement détaillés sur les substrats. Il est fiable et facile à utiliser, et offre la précision, la flexibilité et les fonctionnalités avancées nécessaires pour créer des résultats de haute qualité.