Occasion EVG / EV GROUP 250AV #9400866 à vendre en France

EVG/EV GROUP 250AV est un équipement de photorésistance utilisé pour la création de structures micro et nano-échelle pour diverses applications, y compris l'électronique à couches minces, la technologie médicale et les composants optiques. Ce système intègre la résistance au revêtement, à l'exposition, au développement et au post-traitement en une seule unité, ce qui permet un traitement uniforme et répétable sans avoir besoin de multiples outils et procédés. EVG 250AV comprend une tête de dépôt de résines unique qui fournit jusqu'à 1 KV de dose de charge. Cette tête enrobe uniformément le substrat d'un matériau photorésist, typiquement une combinaison de photorésist et de photorésist amplifié chimiquement. En contrôlant la dose de la résine photosensible sur le substrat, l'utilisateur peut réaliser des motifs extrêmement uniformes et à haute résolution, bien adaptés à la fabrication du dispositif. La machine intègre également une interface optique avec des algorithmes de conception avancés et des capacités d'alignement automatisé. Cette interface avancée permet à l'utilisateur de transférer des motifs bien définis sur le substrat avec une précision et une uniformité de placement supérieures. En outre, l'interface optique supporte une large gamme de longueurs d'onde d'exposition, permettant l'utilisation de matériaux avancés dans la fabrication de dispositifs. EV GROUP 250AV comprend un outil de développement de haute précision qui dispense automatiquement un développeur sur le substrat revêtu. Cet actif assure un développement uniforme et cohérent, permettant un transfert de modèle avec une résolution et une uniformité supérieures. En outre, différents types de substrats peuvent être développés sans modification de la recette ou du matériel. Enfin, 250AV comprend une étape de post-traitement qui permet à l'utilisateur d'éliminer toute résistance photosensible excédentaire et d'améliorer la qualité du transfert de motifs. Ce post-traitement utilise la cendre à courant continu (DC) et la cendre assistée par plasma, ce qui élimine sélectivement les résidus indésirables de la surface du substrat. En outre, l'utilisateur peut incorporer des post-gravures et d'autres traitements pour terminer le processus de transfert de motifs. En conclusion, le modèle photorésist EVG/EV GROUP 250AV fournit à l'utilisateur une solution automatisée et uniforme pour la mise en oeuvre de structures micro et nano-échelle. Cet équipement permet un transfert de motifs efficace avec une haute résolution, uniformité et précision, permettant la fabrication de dispositifs complexes.