Occasion EVG / EV GROUP 301 #293606591 à vendre en France

EVG/EV GROUP 301 est l'équipement idéal pour la lithographie photorésistante et est une technologie de pointe pour les procédés de photomasque et de transfert dans l'industrie de fabrication nanoélectronique et microélectronique. Il est conçu pour l'alignement précis et précis des processus de traitement et d'exposition sur les surfaces microélectroniques. Ce système photorésist permet une lithographie haute résolution, entièrement automatique, avec des dimensions extrêmement étroites jusqu'à 6 µm, ce qui est sans précédent dans l'industrie. Il est également extrêmement fiable, capable de travailler avec un vide élevé et d'excellentes capacités de résolution de fonctionnalités. L'unité de photorésistance EVG 301 est équipée de multiples caractéristiques, lui permettant de manipuler une variété de tailles de plaquettes jusqu'à 200 mm. Il dispose d'une source lumineuse UV de forte puissance pour exposer les plaquettes et d'un projecteur de motif pour la projection du motif sur les plaquettes. La machine est également capable de contrôler la dose d'exposition, la position, le foyer et le zoom. En outre, il est construit avec un certain nombre de capteurs et de systèmes de rétroaction, qui assurent un haut niveau de précision et de précision pour les processus de positionnement et d'exposition sur les plaquettes. L'outil est également équipé de contrôles intégrés pour le dosage et le positionnement, ainsi que pour la métrologie et la modélisation. Cela permet un contrôle et une régulation complets de l'ensemble du processus de lithographie, de l'alignement à l'impression. De plus, l'actif comprend un cycle de nettoyage automatique, qui nettoie périodiquement les surfaces des photomasques et des plaquettes, assurant des résultats reproductibles et précis. Le modèle photorésist EV GROUP 301 est extrêmement convivial et offre de nombreux avantages à l'utilisateur. Il est capable de produire des images à très haute résolution avec des tailles de fonctionnalités aussi petites que 6 µm, et est conçu pour fonctionner dans des environnements de lumière ultraviolette et de chambre à vide à ondes courtes et moyennes. Il fournit également des données d'enregistrement exactes et peut être utilisé pour contrôler les processus de détermination et d'exposition, éliminant la nécessité d'une intervention manuelle et assurant des résultats cohérents de haute qualité.