Occasion EVG / EV GROUP 301 #293648317 à vendre en France

EVG/EV GROUP 301 Photoresist Equipment est un système de traitement de résines conçu pour assurer une fabrication de haute qualité et rentable de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'unité est conçue pour être compatible avec une variété de formulations photorésistantes, offrant aux utilisateurs flexibilité et polyvalence pour leurs exigences spécifiques d'application. Les composants de base de la machine sont les unités de résistance et d'exposition. L'unité de résistance est équipée d'une plate-forme de revêtement exclusive et d'une vanne pneumatique de distribution ainsi que d'une station de trempe post-processus. Cette combinaison assure un processus reproductible et fiable et minimise les variations d'épaisseur du film. Le volume de distribution, la vitesse d'application et la pression peuvent être variés et ajustés pour un traitement optimal. L'unité d'exposition comprend un outil d'exposition laser à impulsion courte à haute performance, à longueur d'onde variable. Cet actif d'exposition est capable de contrôler la taille et l'intensité des taches d'exposition avec une résolution temporelle élevée et une résolution spatiale élevée. Il dispose également d'un plateau d'exposition avec une plus grande zone de fenêtre optique et une broche optique réglable pour permettre une plus grande uniformité d'exposition sur l'ensemble du champ de vision. Le modèle photorésist EVG 301 comporte une variété de processus multiples intégrés et de composants périphériques, y compris des processus de formage, de dictage et de lithographie d'images laser. L'équipement intègre des minuteries de bord pour la détection automatique des bords et les processus de contrôle en boucle fermée avec des paramètres d'éclairage variables pour une exposition précise, répétable et fiable avec un logiciel facile à utiliser. EV GROUP 301 Photoresist System est conçu et mis en œuvre avec une série de caractéristiques de sécurité pour assurer un environnement de travail sûr et productif. Ces caractéristiques comprennent une combinaison de contrôle matériel et logiciel, ainsi qu'une variété d'interconnexions, de circuits d'isolement et de sécurités intégrés à l'unité. La machine est également conçue pour minimiser l'effet backplate, ce qui peut causer des problèmes d'alignement et d'enregistrement avec des photomasques haute résolution. 301 Photoresist Tool peut également être intégré à une variété d'équipements et de composants périphériques spécialisés, tels que la détection automatique de particules, les systèmes d'immersion liquide et les équipements de spin-coating. En résumé, EVG/EV GROUP 301 Photoresist Asset est une plate-forme fiable et hautement personnalisable pour réaliser des solutions de résistance à la gravure rentables et de précision pour des applications allant du prototypage à la production à haut volume. Ses caractéristiques de sécurité intégrées offrent aux utilisateurs un environnement de travail sûr pour leurs applications. Ses composants multi-processus et périphériques offrent aux utilisateurs flexibilité, précision et répétabilité.