Occasion EVG / EV GROUP 301 #9071454 à vendre en France

EVG/EV GROUP 301 est un équipement de haute qualité conçu pour modeler avec précision les structures en couches minces. Les systèmes photorésistants sont utilisés dans toute une gamme d'applications telles que les structures de dispositifs semi-conducteurs, les systèmes microélectromécaniques (MEMS) et les systèmes microoptoélectromécaniques (MOEMS). EVG 301 est conçu pour être utilisé dans plusieurs étapes de traitement telles que le revêtement, l'exposition et le développement. Le système dispose de deux systèmes d'alignement pour assurer un positionnement précis et précis des photorésistances. La première unité est un aligneur automatisé 5 axes avec une taille de champ réglable et la vitesse de l'étage. Cette machine offre une large gamme de caractéristiques d'alignement, y compris l'adaptation des motifs, la reconnaissance complète de la matrice et le contrôle des processus. Le deuxième outil est un alignement au microscope de précision, qui permet un réglage précis du positionnement et une résolution jusqu'à 10 millimètres. L'actif est équipé d'un modèle d'exposition haute performance pour l'imagerie à haut volume avec éclairage régulier et hors axe. Il offre deux modes d'éclairage interchangeables, le mode flash pour la rotation et l'exposition par lots, et le mode de conversion pour les voyages et les expositions de spécialité. L'équipement fournit également un contrôle statique et dynamique du processus d'exposition, permettant aux utilisateurs d'ajuster facilement l'exposition pour répondre aux exigences exactes de chaque application. Le système dispose d'une unité de reconnaissance de masque haute résolution, conçue pour détecter et corriger automatiquement les désalignements de masque et les expositions incorrectes. Ainsi, chaque couche de résine photosensible est exposée et modelée avec précision. La machine est également équipée d'un développeur de spin de haute précision, conçu pour assurer un spin-enrobage uniforme des photorésistants. L'outil peut être agrandi avec des accessoires supplémentaires, y compris un logiciel de génération de vecteurs avancé, un atout 3D auto-focus, et un étage X-Y microspot. Dans l'ensemble, EV GROUP 301 est un modèle photorésist très polyvalent et fiable, adapté à un large éventail d'applications. L'équipement offre un alignement de précision, des systèmes d'exposition haute performance et la reconnaissance de motifs de masque, assurant une photorésistance de haute qualité et exposée avec précision pour chaque application. Le système fournit également aux utilisateurs des accessoires supplémentaires pour plus de commodité et de flexibilité.