Occasion EVG / EV GROUP 301 #9284544 à vendre en France

EVG/EV GROUP 301 Photoresist Equipment est un système de lithographie avancé entièrement automatisé qui est conçu pour créer des motifs latéraux sur une variété de substrats. Cette unité est utilisée dans diverses industries, telles que la microélectronique, le MEMS et la fabrication de semi-conducteurs. Les principaux composants de cette machine comprennent un stepper/scanner, mandrin sous vide, traitement des plaquettes et station de développement. Le stepper/scanner contrôle le transfert du motif du réticule vers la plaquette. Ce stepper/scanner dispose d'un grand champ de vision pour une précision et un débit maximum. Le mandrin sous vide assure un maintien sûr de la plaquette contre l'outil pour une lithographie très précise. Le module de traitement des plaquettes se compose d'une chambre d'exposition intégrée, d'un chargeur à cassettes et d'un pré-aligneur, ainsi que d'un échangeur de chaleur à nez multiple qui est utilisé pour maintenir une température constante. La station de développement est utilisée pour le développement de la photorésist. Il contient un réservoir de développement, des réservoirs de rinçage et deux systèmes de distribution chimique pour différents photorésistes. Le module développeur contient également un module UV pour le durcissement et l'inspection de la résine photosensible avant le développement. L'actif dispose également d'une conception flexible et modulaire qui permet aux utilisateurs de personnaliser le modèle en fonction de leurs exigences d'application précises. EVG 301 Photoresist Equipment dispose également d'une optique de pointe, qui permet une imagerie haute résolution. Ce système peut reproduire avec précision des motifs avec des caractéristiques aussi petites que 0,5 µm. L'unité est également très rapide et précise, avec un débit allant jusqu'à 1000 plaquettes/h. La machine est simple à utiliser et très fiable. Il est conçu avec une interface utilisateur intuitive pour le rendre facile à utiliser. En outre, l'outil est soutenu par une assistance après-vente exceptionnelle et le service à la clientèle. L'atout est également livré avec un logiciel avancé, permettant aux utilisateurs de développer leurs propres recettes de processus et de maximiser leurs résultats de lithographie. En conclusion, EV GROUP 301 Photoresist Model est un équipement très fiable et convivial conçu pour aider les utilisateurs à obtenir des résultats lithographiques très précis. Ce système est doté d'une optique de pointe, d'un débit rapide et d'un support de développement robuste qui permet aux utilisateurs de personnaliser l'appareil en fonction de leurs exigences d'application uniques.