Occasion EVG / EV GROUP 301 #9358755 à vendre en France

Fabricant
EVG / EV GROUP
Modèle
301
ID: 9358755
Style Vintage: 2005
Wafer cleaner 2005 vintage.
EVG/EV GROUP 301 est un équipement de traitement de photorésistance utilisé pour diverses applications. Il est capable d'aligner et d'imprimer des masques pour des photomasques et des plaquettes, ainsi que d'effectuer des dépôts de substrat, des gravures sèches et humides, de développer des procédés et de nombreux autres procédés de réplication de motifs. Le système est idéal pour les projets de recherche et développement. EVG 301 est équipé d'une unité de préhension avancée qui facilite l'alignement précis et l'impression précise des photomasques, construite avec des mécanismes de chargement rapide pour réduire les temps de repos du substrat et du masque. Le processus d'alignement des plaquettes de la machine est automatisé grâce à ses éléments piézoélectriques (PEV) à commande individuelle, ce qui réduit encore le temps de battage et améliore la précision. L'outil est conçu avec une plate-forme modulaire, permettant une personnalisation facile pour répondre aux besoins d'un large éventail d'applications. La table porte-substrat peut accueillir jusqu'à 30 substrats à la fois, et l'actif peut atteindre des températures allant jusqu'à 200 ° C Le modèle dispose également d'un équipement de levage ergonomique pour faciliter l'accès et le retrait des substrats. Le système offre également un processus avancé de fabrication de masques. Il est équipé d'une unité optique de 200 nanomètres de champ de balayage, ainsi que d'un contrôle d'exposition pour régler la force sur le point de contact entre le substrat et le masque. La machine est également capable de revêtir masque-poli et finition capacités, ce qui contribue à réduire le temps de revêtement et minimise la défectivité. En résumé, EV GROUP 301 est un outil de traitement de résines photosensibles polyvalent et fiable qui permet de raccourcir les temps de traitement du substrat et du masque. Il est idéal pour la recherche et le développement de technologies avancées d'imagerie.
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