Occasion EVG / EV GROUP 8002 #9384858 à vendre en France

EVG/EV GROUP 8002 est un équipement de photorésistance adapté à une variété d'applications. Ce système dispose d'une plate-forme de photolithographie idéale pour les petites et moyennes applications et d'un robot 6 axes intégré conçu pour les procédés de fabrication d'unités de micro-électronique. La machine est également capable d'aligner ses composants avec une précision de 5 micromètres, ce qui en fait un outil utile pour un large éventail de procédés. L'aspect photolithographique de EVG 8002 se compose de deux composantes principales : un interféromètre laser (LIF) et un alignement d'approvisionnement à large bande (BBSA). Le LIF est utilisé pour mesurer avec précision la tolérance positionnelle avec une résolution de 1 micromètre. Cet aspect est idéal pour assurer un positionnement précis des composants lors des opérations d'alignement et de recentrage. Le BBSA est en revanche la principale source de rayonnement utilisée dans l'étape de photolithographie. Il peut émettre de la lumière avec des longueurs d'onde allant de 300 à 1400 nanomètres et fournit l'énergie nécessaire pour exposer les parties photosensibles aux niveaux de rayonnement désirés. En termes d'équipement, EV GROUP 8002 est livré avec une gamme de kits conçus pour répondre à votre application spécifique. Cela comprend un module de transport de plaquettes, un porte-substrat et un porte-masque. En outre, l'outil est également doté d'un large choix d'optiques pour votre application, allant d'une variété de lentilles, de réflecteurs et de condensateurs, avec des accessoires en option tels qu'un filtre de densité neutre. Le noyau de 8002 est le robot automatique à 6 axes qui permet un positionnement précis et reproductible de la plaque de masque et de la plaquette. Ce robot peut également suivre automatiquement le mouvement de la plaque de masque et de la plaquette, en gardant une trace de la tolérance de position et des temps d'exposition par rapport au porte-substrat, permettant une précision de placement supérieure et une dérive minimale. Les paramètres d'exposition antérieurs peuvent également être réutilisés pour être utilisés dans des lots de production ultérieurs, ce qui garantit la cohérence du processus au fil du temps. En termes de performances, EVG/EV GROUP 8002 a une taille de pas minimale de 0,1 micromètre et une répétabilité de 5 micromètres, quelles que soient les fluctuations de température. Ce niveau de précision permet une excellente précision et répétabilité, ce qui en fait une excellente solution pour des applications de tolérance serrées. L'actif fonctionne également avec un temps de cycle de 15 secondes et un débit maximum de 10 parties par heure, ce qui le rend idéal pour les petites et moyennes exigences de production. En résumé, EVG 8002 est un modèle de photolithographie puissant capable d'aligner et d'exposer avec précision les pièces avec une résolution de 5 micromètres. Le robot 6 axes intégré permet de suivre avec précision le mouvement de la plaque de masque et de la plaquette, tandis que le large choix d'optiques offre une compatibilité personnalisée. Cette combinaison de fonctionnalités offre à EVG la flexibilité nécessaire pour une gamme d'applications, ce qui en fait un excellent outil pour la plupart des processus de fabrication.