Occasion FISA CC20/40 #9395454 à vendre en France

FISA CC20/40 est un équipement de photorésistance à base de cobalt spécialement conçu pour les procédés de lithographie et de pellicules sèches. Ce système photorésist permet d'obtenir des caractéristiques de résolution très élevées et améliorées par rapport aux autres photorésists du marché. La haute résolution de l'unité de photorésistance résulte de ses propriétés uniques. Au cœur de la photorésistance FISA CC20/40 se trouve le composé radiosensible à base de cobalt, qui est conçu pour être sensible aux ondes lumineuses entre 270 et 460 nanomètres. Cette plage de longueurs d'onde a été trouvée pour permettre des processus de lithographie plus précis et à haute résolution. Le composé à base de cobalt permet également d'améliorer la photo-stabilité et des temps de développement plus rapides que les autres systèmes de photorésistance. L'outil photorésist est également formulé avec un développeur liquide qui contient une combinaison d'acides et d'agents complexants qui ont été spécifiquement conçus pour améliorer le développement et la performance des ressources. Ce développeur est conçu pour enlever plus facilement la résine photosensible exposée du substrat, produisant des motifs de plus haute résolution. Le concepteur aide également à réduire les risques pour l'environnement et la santé puisqu'il est non toxique et à base d'eau. L'actif photorésist est également conçu avec un procédé de durcissement à basse température, qui permet de produire des films plus forts sans les étapes coûteuses de gravure et de transfert de motifs nécessaires pour certains photorésistes. Le durcissement à basse température a également l'avantage de réduire la sensibilité du modèle photorésist aux chocs thermiques et permet un transfert de motif très précis dans le substrat. Enfin, l'équipement photorésist est conçu avec une courbe de reflow optimisée, une caractéristique importante pour les processus de lithographie réussis. La courbe de rafraîchissement est adaptée à l'application spécifique et permet d'assurer une fidélité de ligne et de motif cohérente. En combinant les propriétés uniques de son composé radiosensible à base de cobalt, son développeur de liquide optimisé, son procédé de durcissement à basse température et sa courbe de refusion raffinée, le système photorésist FISA CC20/40 offre une résolution supérieure, une meilleure photo-stabilité, des coûts réduits et des avantages pour l'environnement et la santé par rapport aux autres systèmes photorésistants sur le marché. Cela fait de l'unité photorésist FISA CC20/40 un excellent choix pour les procédés de lithographie et de pellicules sèches.