Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #293700892 à vendre en France

L'équipement FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005 est un système de traitement photorésist conçu pour les procédés avancés de traitement lithographique. Les composants de l'unité comprennent un processeur de rotation, une chambre d'imagerie et une machine de distribution de photorésist. Le processeur de spin est chargé de revêtir uniformément le substrat d'une résine photosensible. Le processeur de spin utilise la technologie d'entraînement direct, permettant un contrôle précis de la vitesse du processeur. Le processeur de spin dispense également la quantité de matériau photorésist nécessaire pour le substrat, et peut être ajusté pour différentes applications de procédé. La chambre d'imagerie est chargée de fournir un environnement contrôlé pour l'exposition du substrat à la lumière. Cette chambre est équipée d'un outil de commande de mouvement qui affine le mouvement de scène pour la résolution d'image. La chambre dispose également d'une source de lumière flash intégrée pour éclairer le substrat. L'actif de distribution de la résine photosensible est chargé de fournir au processeur de spin une alimentation cohérente en matière de résine photosensible. Ce modèle dispose d'un équipement de filtres pour purifier le matériau photorésist et prévenir la contamination. Le système FSI 915597-005 est conçu pour fournir des procédés de dépôt photorésist très précis. En utilisant sa technologie d'entraînement direct et son unité de commande de mouvement, il peut fournir une couverture de substrats à faible variation de processus. Cette machine est également capable de réduire la variation de la taille des lignes causée par l'épaisseur de la couche non uniforme. En outre, la source de lumière flash peut fournir même l'éclairage des substrats pour une résolution plus élevée. Dans l'ensemble, TEL 915597-005 est un outil de traitement de photorésistance avancé qui fournit des processus de dépôt de photorésist très précis. Le processeur de spin, la chambre d'imagerie et le modèle de livraison de photorésist de cet équipement travaillent ensemble pour fournir une couverture de substrat précise et cohérente. Ce système est capable de réduire la variation de la taille de la ligne, et est en mesure de fournir même l'exposition des substrats pour une résolution plus élevée.