Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #9360975 à vendre en France

Le matériel de photorésistance FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005 est un système de photolithographie conçu pour permettre la production de microstructures très complexes sur des plaquettes semi-conductrices et d'autres substrats. L'unité est conçue pour fournir une imagerie rapide, précise et répétable des motifs sur une large gamme de tailles de masques. Il offre des vitesses d'exposition jusqu'à cinq images par seconde, la plus haute résolution de toute machine de photolithographie disponible, et un contrôle précis de l'exposition. L'outil comprend un photomasque pas à pas de 4 pouces qui est conçu pour fournir des motifs pour l'imagerie précise et répétable sur les substrats jusqu'à 6 pouces de taille. Il dispose d'un film très sensible qui est capable de capturer avec précision les motifs du masque, ce qui donne des résultats d'exposition améliorés et des motifs très reproductibles. L'actif comprend également un modèle intégré d'alimentation et de traitement des films qui permet une configuration et un nettoyage faciles entre les expositions. L'équipement comprend également un ensemble complet d'outils d'imagerie pour personnaliser les performances du système. Ces outils comprennent la commande automatique de l'obturateur, l'alignement automatique et la commande de mise au point, et le logiciel programmable de gestion des plaquettes. De plus, l'unité comprend un logiciel de contrôle de l'exposition qui permet aux utilisateurs d'ajuster et de personnaliser facilement les paramètres d'exposition et de surveiller les résultats pendant l'imagerie. Enfin, la machine comprend une gamme d'optiques d'imagerie qui fournissent une imagerie améliorée de substrats de différentes tailles et configurations. Ceci inclut des lentilles de focale variable, en fonction de la taille du substrat et de la résolution du motif. L'optique d'imagerie peut également être personnalisée afin de fournir des effets spéciaux pour l'imagerie plus complexe, comme l'imagerie à profondeur variable, l'imagerie à mi-hauteur et l'imagerie à contraste plus élevé. Dans l'ensemble, l'outil photorésist FSI 915597-005 est un excellent choix pour l'imagerie haute résolution, reproductible et polyvalente et le traitement des plaquettes semi-conductrices et autres substrats. Son contrôle d'exposition de haute précision, ses outils d'imagerie et son optique de pointe permettent une flexibilité et une personnalisation lors de la production de microstructures complexes.