Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #9408657 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005 est un équipement de photorésistance conçu pour des applications de photo-masquage. Il se compose d'un modèle Stepper/Aligner 915597 et d'un modèle d'unité d'exposition 915596. Le Stepper/Aligner est un système d'imagerie haute précision et haute vitesse pour l'imagerie en ligne fine et haute densité en 3 dimensions sur des photomasques de grande taille jusqu'à 12,7 x 12,7 pouces (320mm x 320mm). Il dispose d'une grande taille de champ, avec des coordonnées X/Y jusqu'à + -9,8 pouces chacun, et a une vitesse maximale de 4000 x 4000um/sec. L'unité d'exposition de l'unité fournit jusqu'à 3 EV et permet une exposition précise de la photomasque par tracé linéaire, fractionné et sautant multicouche. Il offre des performances avancées pour le traitement en ligne des réticules avec une lampe DUV de 6 pouces, des fonctions d'étalonnage et de mesure améliorées, et une vérification avancée des motifs pour une précision précise du transfert de motifs. Cette machine est équipée de processus humides et secs entièrement automatiques combinés à un balayage rapide et à des fonctionnalités logicielles avancées pour augmenter le débit, la flexibilité et la facilité d'utilisation. Cet outil est particulièrement adapté à l'environnement de production, offrant un contrôle de processus avec une homogénéité serrée et une précision de recouvrement précise. Il est également capable d'effectuer une exposition simultanée de photomasques de 8 pouces. La combinaison du Stepper/Aligner et de l'unité d'exposition offre un rendement amélioré pour l'imagerie avec des largeurs de ligne serrées et des dimensions critiques minimales. Cet actif est également équipé d'une lentille de bobine montée sur le Stepper/Aligner qui fournit une imagerie haute ouverture numérique (NA) et une faible distorsion. Dans l'ensemble, FSI 915597-005 Photoresist Model est conçu pour fournir la précision, la résolution, le débit et la répétabilité de pointe de l'industrie pour le processus de masquage de photo. Il offre une imagerie répétable, rentable et efficace tout au long du processus de production. Cet équipement est conçu pour répondre aux exigences d'un large éventail de clients, y compris les laboratoires de semi-conducteurs, de microélectronique, de production de masques et de recherche et développement.