Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Excalibur #293642294 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Excalibur est une solution de photolithographie automatisée haute performance qui a été développée pour relever les défis de la fabrication de sous-100nm à l'aide de la photolithographie. Il est conçu pour fournir une précision, un haut débit et un traitement peu coûteux et adapté à une grande variété d'applications complexes, y compris WLCSP, photonic-Guide, SiGN PV Cell modeling et MEMS processus. FSI Excalibur Photoresist system est basé sur une technologie de lithographie exclusive développée par FSI, avec une unité brevetée de photorésistance fine pour les motifs complexes. Construite sur une plate-forme modulaire, la machine TEL Excalibur est conçue pour atteindre une grande précision, fiabilité et répétabilité. L'outil utilise une source lumineuse haute puissance (HPLS) qui permet à l'actif de focaliser la lumière sur des substrats avec une précision allant jusqu'à 25 - 100 nm, permettant des résultats plus rapides et plus précis. La source lumineuse est multi-longueur d'onde capable, permettant aux utilisateurs de commuter entre différentes bandes de longueur d'onde pour obtenir des motifs optimaux. Le modèle utilise également une caméra CCD avancée qui peut détecter et analyser des cibles en mouvement rapide, et est capable de suivre les particules et les billes avec une grande précision. Cela permet une résolution et une précision allant jusqu'à 20 nanomètres pour un débit efficace allant jusqu'à 200 plaquettes par heure. TOKYO ELECTRON Excalibur Photoresist équipement utilise une station de nettoyage très efficace qui a été spécialement conçu pour éliminer les particules indésirables et les contaminants des plaquettes. Ce processus de nettoyage est essentiel pour assurer le succès du processus de photolithographie et des produits finaux souhaités. Le système est conçu pour une application polyvalente et son architecture modulaire permet des mises à niveau et des améliorations. Il est livré avec une gamme d'outils logiciels sophistiqués et des fonctionnalités telles que des outils d'optimisation de profil, l'optimisation automatique pré/post, des fonctionnalités d'alignement, des outils d'analyse de superposition et de fidélité résiduelle, et des algorithmes de détection de défauts qui peuvent aider à optimiser les performances. Excalibur Photoresist unit a été utilisé pour la photolithographie de haute précision et la microstructuration avancée d'une large gamme de matériaux de polymères conducteurs, de verre, de composés III-V et de céramique. Il peut également être utilisé pour la lithographie sans masque, permettant des manipulations générales au niveau du substrat. Cette machine est réputée pour sa grande précision et sa répétabilité et est capable de manipuler un large éventail de substrats et de volumes de production.