Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K100 #9099908 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K100 est un équipement de photorésistance mis au point par FSI, Ltd., qui utilise des technologies avancées d'exposition et d'imagerie pour exécuter un large éventail de procédés de photolithographie de précision. Le système est conçu pour être utilisé dans des applications de fabrication d'IC, y compris les interconnexions 3D avancées, les systèmes microélectromécaniques (MEMS), la photo-imagerie et d'autres tâches de haute précision. L'unité FSI K100 se compose de trois composants principaux : la machine d'exposition, les contrôleurs d'exposition et l'outil d'imagerie. L'actif d'exposition est utilisé pour fournir des quantités exactes de rayonnement d'exposition super-fine à des zones spécifiques du substrat. Monté sur un manipulateur micrométrique, le modèle d'exposition permet un contrôle très précis et précis des paramètres d'exposition. En outre, l'équipement d'exposition comprend un grand champ de vision (FOV) qui est réglable pour adapter la forme du substrat, permettant un enregistrement d'image extrêmement précis. Les contrôleurs d'exposition sont constitués d'une série d'algorithmes avancés de traitement d'image qui sont utilisés pour contrôler le processus d'exposition. Ces algorithmes sont conçus pour optimiser les paramètres d'exposition afin d'assurer des résultats de haute qualité avec une utilisation minimale de la puissance. De plus, les contrôleurs d'exposition sont conçus pour fonctionner en tandem avec le système d'imagerie afin d'assurer la précision et un débit plus rapide. L'unité d'imagerie est conçue pour détecter des images ultra haute résolution avec des temps de réponse pixel en nanosecondes. Cela permet de détecter des caractéristiques très fines avec une distorsion minimale de l'image. En outre, la machine d'imagerie comprend une méthode d'imagerie propre qui est utilisée pour éviter les artefacts d'image de chevauchement des caractéristiques. L'outil photorésist TEL K100 est conçu pour fournir des procédés de lithographie très précis et reproductibles. Cela inclut l'alignement et le traitement d'imageur des images qui produisent des images à haute résolution aux vitesses nécessaires pour une fabrication efficace et économique. En outre, K100 actif est capable de travailler avec un large éventail de substrats, y compris le polyimide, le silicium et le verre, ce qui lui permet d'être très polyvalent et adapté à de nombreuses applications différentes. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON K100 photoresist model est un équipement très avancé pour la lithographie et ses composants avancés permettent un contrôle précis et précis des paramètres d'exposition tout en minimisant l'utilisation d'énergie. Le système est bien conçu pour être utilisé dans les applications de fabrication d'IC et son unité d'imagerie avancée permet de détecter des images ultra-haute résolution avec une distorsion d'image minimale. La photorésistance FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K100 fournit d'excellents résultats et est bien adaptée à différents types de matériaux de substrat.