Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K131 #9244159 à vendre en France

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FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K131
Vendu
ID: 9244159
Taille de la plaquette: 4"
Spin Rinse Dryer (SRD), 4" Maximum: 1000 rpm.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Equipment est un système compact et facile à utiliser de traitement d'échantillons semi-conducteurs créé par FSI International, Inc. et TEL Limited (TOKYO ELECTRON). L'unité est conçue pour fournir des capacités de gravure humide de niveau professionnel aux milliers de petits fabricants de MEMS, de GaAs et de semi-conducteurs de l'industrie des semi-conducteurs. Cette machine comprend un distributeur de type convoyeur intégré pour l'application de solutions photorésistantes sur les plaquettes, un contrôle de mouvement de précision intégré pour la gravure à des profondeurs exactes, et des capacités de nettoyage intégrées pour l'élimination des résidus de photorésist. Il offre également un excellent débit et une excellente uniformité, une caractéristique importante pour la fabrication de semi-conducteurs. FSI K131 Photoresist Tool utilise des techniques de traitement de BPC standard de l'industrie comme le revêtement de spin, la photolithographie, le décapage de photorésist et le trempage afin de produire les résultats de gravure souhaités sur les plaquettes. Il utilise un moyen de livraison classique à cartouche pour distribuer à la plaquette des quantités prédéterminées de solutions photorésistantes. Avec le revêtement de spin, la résine photosensible peut être appliquée à des réglages précis pour obtenir une uniformité maximale. La photolithographie est ensuite utilisée pour modeler la résine photosensible sur la plaquette, ce qui permet de la graver dans la conception souhaitée. Grâce à un modèle de commande de mouvement de précision intégré, TEL K131 Photoresist Equipment est capable d'obtenir des profondeurs de gravure précises sur la plaquette. Cette technologie avancée de contrôle de gravure garantit le plus haut niveau de précision, de fiabilité et de répétabilité lors de la gravure de caractéristiques complexes. Le système intègre également des capacités de nettoyage avancées avec des pulvérisateurs haute et basse pression, assurant que tous les résidus de la résine photosensible sont éliminés. TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Unit offre des performances élevées et d'excellents rendements dans un emballage compact et peu coûteux. Son fonctionnement intuitif et son interface facile à utiliser le rendent idéal pour les petits et moyens fabricants de semi-conducteurs qui ont besoin de capacités de gravure par voie humide de niveau professionnel à un prix abordable. La machine offre un débit exceptionnel, donnant jusqu'à trois plaquettes par minute, avec des résultats reproductibles et uniformes. K131 Photoresist Tool est un outil essentiel pour tout petit fabricant de semi-conducteurs cherchant à améliorer la qualité et la productivité de leurs échantillons.
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