Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Lithius Pro V-i #9358787 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Le Pro V-i est un équipement de photorésistance conçu pour des applications de haute précision. Le système permet le gaufrage de micro-structures sur un substrat à résolution sub-micron. L'unité intégrée comprend une chambre de dépôt chimique en phase vapeur améliorée par plasma (PECVD), un spin-coater et une tête d'exposition pour optimiser les étapes de processus pour les applications de produits. La chambre PECVD est utilisée pour déposer des revêtements photorésistants de qualité photolithographique sur des substrats tels que des plaquettes de silicium, des plaquettes de saphir et des substrats céramiques. Le spin-coater est utilisé pour optimiser la dispersion uniforme du revêtement en résine sur le substrat pour assurer un revêtement lisse et régulier. La tête d'exposition utilise les capacités « step-and-repeat » et « step-and-scan » pour fournir des motifs photomasques à haute résolution (moins de 1 micron) sur le substrat enduit. Cette machine très sensible est capable de résoudre des caractéristiques inférieures à 0,25 micron tout en assurant une uniformité sur de larges surfaces. En plus du spin-coater et de la tête d'exposition, l'outil comprend également une piste automatisée et un outil d'outillage, qui permet des changements rapides sur la ligne de processus. Le logiciel intégré dans le modèle permet aux utilisateurs d'accéder aux données d'image et aux capacités avancées de reconnaissance des motifs. Cette caractéristique permet à l'équipement d'identifier des motifs de photorésist sur des photomasques et de les transférer avec précision sur le substrat revêtu. Le système photorésist Pro V-i est facile à configurer et à utiliser, avec des fonctionnalités de conception, de sécurité et d'automatisation de processus de pointe. Tous les composants de l'unité sont de la plus haute qualité, assurant des résultats fiables et cohérents. Sa précision, sa vitesse, son évolutivité, sa flexibilité et son faible coût en font une machine idéale pour les applications de photolithographie les plus exigeantes.