Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9090432 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP L'équipement de photorésistance est un type de système de dépôt physique en phase vapeur (PVD) à grande vitesse utilisé pour le dépôt de couches de photorésist à la surface de plaquettes semi-conductrices ou d'autres matériaux dans la fabrication de circuits intégrés. Cette unité comprend un processeur PVD Mercuryｮ MP et un contrôleur basé sur microprocesseur, qui permet un dépôt rapide et précis de la résine photosensible. La machine est équipée d'un procédé spécial d'atomisation à grande vitesse et d'une buse spéciale d'atomisation de gaz qui peut générer une pulvérisation extrêmement fine du matériau photorésist. La buse est capable de contrôler la taille des particules atomisées et d'assurer une répartition cohérente de la taille des particules. En outre, cet outil dispose d'un temps de réglage rapide et d'une uniformité de dépôt améliorée, ce qui le rend idéal pour une production de volume élevé. FSI Mercury MP Photoresist Asset offre également de la flexibilité et améliore le contrôle des processus en permettant de multiples recettes pour différentes applications de processus et en permettant l'ajustement des paramètres pour optimiser la couche de dépôt en fonction des besoins spécifiques. Le modèle est capable de produire des couches ultra-minces de photorésist de haute qualité et peut déposer du matériau à des épaisseurs variables avec une bonne uniformité. Ce matériel peut atteindre des taux de dépôt rapides allant jusqu'à 1 micron/seconde, ce qui est beaucoup plus rapide que les procédés traditionnels de résistance. TEL Mercury MP Le système photorésist peut être intégré à d'autres procédés tels que la gravure et le nettoyage, permettant une production rapide et efficace de dispositifs semi-conducteurs dans une production à haut volume. Cette unité comporte une machine à vide intégrée qui est capable de fournir des conditions de vide élevé, nécessaires au dépôt optimal de photorésist. Cet outil comprend également une buse spéciale dont la conception assure une granulométrie et une homogénéité optimales tout au long du processus de dépôt. En outre, il offre un outil de contrôle automatique des processus qui peut être personnalisé en fonction des besoins du client. En outre, TOKYO ELECTRON Mercury MP Photoresist Model est conçu pour être très fiable et offrir un cycle de vie long. Cet équipement est bien adapté au traitement par lots et en ligne. Il offre également une résistivité exceptionnelle pour un large éventail d'applications, y compris l'inversion d'image et l'intensification d'image. En outre, ce système est facile à utiliser et peut être utilisé dans une variété de systèmes incluant la pulvérisation par pulvérisation, la pyrolyse par pulvérisation et le dépôt chimique en phase vapeur. En conclusion, l'unité photorésist Mercury MP est un excellent choix pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs en raison de ses taux de dépôt rapides et d'un meilleur contrôle des procédés.