Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9122700 à vendre en France

FSI MERCURY MP est un équipement de photorésistance très avancé conçu pour fournir des résultats supérieurs dans les processus de photolithographie. Il est spécialement conçu pour les applications micro-électromécaniques (MEMS) et microcircuits. La combinaison symbiotique des propriétés souhaitables des photorésistes à film liquide et à film sec, grâce à un processus d'exposition et de revêtement de film très efficace, permet au système d'offrir des performances de produit de pointe pour les applications MEMS et microcircuit. L'unité photorésist MERCURY MP utilise une combinaison unique de résist liquide et de résist sec pour offrir une résolution, une adhérence et une résistance à la gravure supérieures. La résine liquide est appliquée sur le substrat puis séchée à la lumière ultraviolette. Ceci fournit un motif uniforme et bien défini avec une excellente définition des caractéristiques et une sous-coupe nettement plus faible qu'une photorésist liquide typique. Le motif de résistance est transféré sur la couche de substrat sous-jacente en l'exposant à la lumière ultraviolette. Le processus d'exposition active une photochimie efficace, qui abaisse les surfaces non protégées et fournit une ligne nette et nette. La résine sèche est ensuite appliquée sur la couche de résine liquide exposée. Il offre une résistance supplémentaire à la gravure, permettant un meilleur contrôle dimensionnel. La résine sèche présente également une adhérence de couche supplémentaire facilitant les performances globales d'adhérence de l'empilement de résine. En utilisant une combinaison de photorésistes à film liquide et à film sec, FSI MERCURY MP fournit aux clients une solution qui offre à la fois une résolution améliorée et des propriétés de résistance à la gravure accrues. La machine MERCURY MP dispose d'un procédé de pelliculage et d'exposition très efficace qui est adapté aux applications MEMS et microcircuit. Il utilise des produits brevetés hautement cohérents et la technologie pour assurer des résultats optimaux avec une faible contamination et aucune distorsion d'image. Le processus d'exposition très efficace permet d'utiliser pleinement une surface avec expansion contrôlée du substrat, ce qui améliore la largeur des lignes et le contrôle des dimensions critiques. Le processus d'exposition est optimisé pour la fabrication d'une gamme de matériaux, y compris le silicium, le silicone et d'autres matériaux. L'outil FSI MERCURY MP offre une variété de formats standard de résines photosensibles, permettant aux clients d'obtenir les meilleures performances pour leurs besoins d'application. De grandes applications à la fabrication détaillée d'appareils, l'actif est conçu pour fournir performance et fiabilité. Avec son interface utilisateur facile et son procédé robuste, MERCURY MP est le modèle idéal pour la production de MEMS et de microcircuits, offrant qualité, fiabilité et rentabilité.