Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9161972 à vendre en France

FSI MERCURY MP est un équipement de photorésistance développé par FSI International, Inc. Il est utilisé dans les procédés de gravure de semi-conducteurs, où les plaquettes de semi-conducteurs sont exposées à la lumière UV, ce qui modifie les propriétés du matériau exposé, ce qui facilite la gravure. Le système MERCURY MP utilise une unité de photorésistance sous vide, qui permet une gravure précise du substrat. La machine est conçue pour fournir un environnement de haute performance et fiable pour la gravure en ligne fine des plaquettes semi-conductrices. L'outil de photorésistance sous vide utilise un actif de projection de lumière et une chambre d'irradiation pour une exposition uniforme à la lumière UV. Dans la chambre d'irradiation, la lumière UV de haute énergie est projetée sur la plaquette pour exposer le matériau photorésist à la lumière. L'exposition contrôle la profondeur de gravure et élimine les risques de sous-gravure ou de surgravure du matériau. Le modèle a une variété de caractéristiques qui aident à assurer un contrôle précis et la précision. L'équipement utilise une optique d'imagerie précise et un laser infrarouge à haute vitesse robuste pour diriger la lumière sur la plaquette, permettant des résolutions très fines. Le système utilise également des systèmes de masquage et d'imagerie précis, associés à une unité de projection optique haute performance (OPSM) très efficace pour une exposition uniforme. Le laser est également capable d'ajuster rapidement son rayonnement de sortie, permettant un contrôle précis du temps d'exposition. La machine FSI MERCURY MP est adaptée à une large gamme de procédés de photorésistance, tels que la gravure profonde et la gravure ultra fine. Il dispose également d'une interface utilisateur évoluée, programmable, qui permet aux utilisateurs de définir rapidement et facilement les paramètres et de visualiser le processus de gravure en temps réel. L'outil MERCURY MP est un actif photorésist puissant et précis, adapté à la gravure de précision dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est idéal pour la production de circuits intégrés haute densité, ainsi que d'autres dispositifs microélectroniques. Le modèle offre un environnement fiable et performant, avec une optique d'imagerie précise et un laser robuste et rapide, ainsi que des interfaces utilisateur programmables, permettant un paramétrage rapide et facile.