Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9217485 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP est un équipement de photorésistance automatisé spécialement conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système utilise la dernière technologie dans le durcissement intense de la lumière ultraviolette d'un matériau photosensible pour créer une couche finie de matériau gravé sur toute la surface du substrat. Cette unité est bien adaptée à la fabrication de microélectronique haute performance, de nanotechnologie et d'optoélectronique. La machine FSI Mercury MP utilise une méthode brevetée de projection d'image à haute résolution pour délivrer de la lumière ultraviolette à travers un modèle désiré de matériau photosensible. Ceci est combiné avec la microlithographie pour créer des caractéristiques nanométriques avec chaque cycle de projection d'image. L'image projetée est ensuite transférée sur un substrat et durcie avec la lumière ultraviolette de haute intensité. Ce procédé permet d'utiliser des combinaisons précises de photolithographie et de marquage laser pour des caractéristiques à l'échelle du micromètre et des caractéristiques à l'échelle du nanomètre. Permettant une bien meilleure précision et reproductibilité que les procédés manuels ou la photolithographie seule. L'outil comprend un stepper/scanner qui est utilisé pour mesurer avec précision l'exposition à la lumière ultraviolette lors de son passage à travers le masque et sur le substrat. Le stepper/scanner est étroitement intégré à un réchauffeur céramique à température de plusieurs zones. Cela permet un durcissement précis, reproductible et précis de différents matériaux en une seule opération transparente. En conséquence, la projection d'image haute résolution, combinée à un contrôle précis de la température et de l'humidité, améliore considérablement le temps de cycle de production, tout en maintenant un rendement produit très élevé. Outre ses capacités de traitement des photorésistances, TEL Mercury MP permet l'utilisation d'une chambre à outils à vide élevé pour des applications de lithographie ultrafine. Cette chambre est équipée d'un cryostat à vide qui est capable d'atteindre des températures de -25 ° C pour le durcissement rapide du matériau photosensible. Ceci permet une résolution la plus élevée possible dans la production de produits microélectroniques et nanoélectroniques. Le modèle MP de mercure est conçu pour le traitement de grands substrats. Il est capable de traiter jusqu'à trois substrats simultanément, et l'équipement fournit un moyen automatisé de transfert d'informations de processus et de substrat entre les composants. Cela permet une plus grande flexibilité et une meilleure durée de cycle de production. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Mercury MP photoresist system est un excellent outil pour la production de microélectronique avancée et optoélectronique. Le matériel et le logiciel inclus fournissent une technologie de pointe, la précision et la répétabilité qui permettent un processus de fabrication très productif.