Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9228777 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mercury MP est un système hautement automatisé et intégré conçu pour permettre une manipulation précise des couches de photorésist pendant les processus de développement, de lithographie et de métrologie. La photorésist est un film de polymère mince et sensible à la lumière utilisé en lithographie pour créer des micro-structures à la surface d'un substrat. L'étage spline-drive de l'unité utilise des moteurs linéaires qui utilisent une technologie d'interpolation brevetée et asservie pour maintenir une précision de position précise pendant l'enregistrement de la surface, l'exposition à la lumière et le nettoyage post-développement. La machine est équipée d'un étage large et parallèle qui permet de grandes tailles de photomasques, offrant la plus haute résolution en une seule exposition. Sa technologie d'exposition avancée permet de scanner les motifs d'exposition tels que les lignes diagonales et les arcs pour la gravure de haute précision et le transfert de la précision des motifs. Sa modulation d'exposition précise obtenue par laser semi-conducteur permet des expositions très précises de pixels de résistance avec un contrôle précis du pas. En plus de ses capacités d'exposition, FSI Mercury MP offre également une gamme complète d'outils de métrologie pour l'analyse précise des substrats et les inspections des plaquettes. Son outil de métrologie utilise des microscopes à interférence laser, des microscopes confocaux et des mesures de force pseudo-atomique pour mesurer et détecter avec précision la taille critique, le placement et la forme du motif, et les caractéristiques du dispositif. Les outils d'inspection à haute résolution SkyScan sont utilisés pour détecter les caractéristiques haute fréquence avec une haute résolution, précision et précision. Les masques Phoenix sont utilisés pour vérifier la précision de la forme du motif des caractéristiques de résistance haute résolution. Des logiciels d'acquisition et d'analyse des données sont disponibles pour une analyse plus approfondie des données collectées. L'actif propose également des modèles de simulation de processus pour prédire les valeurs de la dimension du motif avant d'engager la résistance à la lithographie. La bibliothèque intégrée de recettes de processus contient une vaste liste de processus de photolithographie et de recettes pour aider à rationaliser le fonctionnement et assurer la reproductibilité. Le modèle dispose de chambres à température contrôlée pour soutenir les processus de gravure à température contrôlée de l'air. TEL Mercury MP offre une plate-forme complète pour des résultats de lithographie et d'imagerie rapides, précis et reproductibles. La haute résolution et la précision du système, les solutions de métrologie et d'inspection de pointe et les bibliothèques de recettes étendues en font un choix idéal pour une gamme d'applications allant de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs à la microfluidique.