Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9250089 à vendre en France

FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP
ID: 9250089
Taille de la plaquette: 6"
Spray cleaning system, 6".
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mercury MP est un système de lithographie conçu pour la fabrication de circuits intégrés et de microstructures. Il est basé sur une lumière laser balayée exposée au substrat enduit de résistance, qui est ensuite développée avec un procédé chimique. L'unité FSI Mercury MP a une longueur d'onde de 248nm et une ouverture numérique de 0,3. Il est capable de détecter et de régler automatiquement la forme et la position du faisceau laser pour s'assurer que des motifs précis sont générés sur les substrats. Le résonateur a été conçu pour améliorer encore le débit et la qualité de l'image, tandis que la machine RLS (Reticle Level Control) assure un alignement de recouvrement précis. Les systèmes comprennent un outil avancé d'imagerie et de photomasque qui est capable de fournir des images de motifs jusqu'à 28nm. L'actif se compose de deux photomasques, un pour la fixation corporelle, et un pour la fixation par contact. Les photomasques sont supportés par un logiciel d'imagerie airgap qui permet un alignement de superposition de masque complexe et l'optimisation du processus photorésist. Le modèle peut être utilisé pour une variété de procédés de lithographie, y compris le revêtement de spin, l'impression de contact et de projection, et l'exposition à l'échelle du nanomètre. Il est conçu pour une large gamme de tailles de plaquettes, de 4 à 8 pouces de diamètre. De plus, le régulateur de température intégré de l'équipement garantit une stabilité de processus exceptionnelle. Le système TEL Mercury MP offre des capacités d'imagerie supérieures et un contrôle de processus serré, ainsi qu'une excellente uniformité photorésistante. Il permet également une imagerie rapide et un délai de traitement, réduit les coûts de traitement et minimise le travail partiel, ce qui en fait un choix idéal pour les applications où la haute vitesse, l'imagerie précise et le contrôle efficace des processus sont essentiels.
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