Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9299003 à vendre en France

FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP
ID: 9299003
Taille de la plaquette: 6"
Spray cleaning system, 6".
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mercury MP est un outil de photolithographie avancé conçu pour le traitement des composants de dispositifs électroniques. Le système est composé d'un pas à pas, d'un étage multi-axes et d'une photorésist qui permettent de bloquer des circuits à la surface de différents types de dispositifs de manière très précise et uniforme. Le stepper est le cœur de l'unité, permettant aux sources de rayonnement d'assurer l'exposition du matériau photorésist. La source de rayonnement est une lampe à vapeur de mercure, avec un rendement d'ultra haute intensité sans précédent dans d'autres systèmes pas à pas. Il est également équipé d'optiques qui le rendent capable d'imiter avec précision des motifs répétitifs sur une base uniforme. L'étage multi-axes utilisé dans la photorésist permet de repositionner facilement et précisément les composants lors de l'exposition. Cela garantit un travail uniforme sur une large surface, permettant un processus de photolithographie personnalisable. De plus, l'outil est capable de suivre avec précision des règles de conception complexes, lui permettant de s'adapter à des formes réticulaires même complexes. Le matériau photorésist utilisé dans l'actif photorésist FSI Mercury MP est conçu pour une excellente uniformité et résolution. Il est très durable et résistant aux dommages dus à l'exposition, et offre également des résolutions d'image supérieures à tous les niveaux de mise au point. En combinant ce matériau avec l'étage pas à pas et multi-axes, le modèle est en mesure de produire des images qui avec une clarté supérieure et des largeurs de lignes fines. En résumé, l'équipement de photorésistance TEL Mercury MP est un outil très fiable et polyvalent pour la production de composants électroniques. Son étage pas à pas, multi-axes et photorésist offrent des performances et une précision supérieures, ce qui en fait le choix idéal pour une variété d'applications de photolithographie.
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