Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9015074 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement photorésist Mercury OC est un système de revêtement chimique conçu pour permettre un contrôle précis des couches de photorésist ultra minces ou microns d'épaisseur pour les procédés de photo-lithographie. Cette unité obtient une précision et une répétabilité inégalées en combinant un revêtement de film de haute précision avec des résistances uniformes précises. La machine est équipée d'un outil de pelliculage de précision capable de contrôler l'épaisseur de couches minces aussi petites que 1.2nm. Il utilise également trois techniques uniques de revêtement de film : Drag Method, Jet Drop Method et Direct Dispense Method, qui augmentent la précision et l'uniformité du revêtement. L'actif possède également une résistance uniforme précise qui permet des épaisseurs de couche de résistance reproductibles. Ce modèle est capable de créer des largeurs de ligne très étroites, qui sont essentielles pour les procédés avancés de fabrication de dispositifs. FSI Mercury OC photoresist équipement est équipé d'un logiciel puissant qui fournit des capacités intuitives de contrôle et de surveillance des processus. Le logiciel permet à l'utilisateur de définir rapidement des algorithmes de revêtement, garantissant un délai raccourci pour la commercialisation des produits. Le logiciel comprend également une connexion réseau facultative, qui fournit à l'utilisateur des capacités de surveillance et de contrôle à distance. Cela permet le partage de données entre les différentes étapes du processus ainsi que le diagnostic et la maintenance des équipements à distance. Le système assure également une traçabilité intégrée grâce à sa conformité aux protocoles standards de l'industrie. Cette fonction permet le suivi et l'enregistrement des paramètres du processus, permettant aux opérateurs de récupérer facilement les données, d'améliorer les données du processus et de maintenir la conformité réglementaire. TEL Mercury OC photoresist unit est très fiable et résistant à la détérioration. Il est assez puissant et fiable pour gérer une variété d'applications complexes de traitement de microcircuit, ce qui en fait une partie intégrante du processus de photo-lithographie.