Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9220294 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC est un équipement de photorésistance conçu pour réaliser des procédés lithographiques avancés sur divers substrats. La photorésist est un matériau qui change chimiquement lorsqu'il est exposé à la lumière. Cette technologie est utilisée dans un certain nombre d'industries, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, l'impression et la fabrication de dispositifs médicaux. Le système FSI Mercury OC est une extension de la plate-forme photorésist FSI Venus deep-UV. Il a été développé spécifiquement pour répondre aux besoins uniques du processus de lithographie dans la production de microquarts de micron IC. Cette unité combine une technologie de planification de film exposé très efficace, un contrôle de mouvement avancé et des capacités de fixation ultra haute résolution (jusqu'à 1 µm). La machine est équipée d'un mandrin avancé et sophistiqué et d'une source lumineuse fiable, capable de fournir des expositions très ciblées et cohérentes sur de grandes surfaces. Cela garantit que le processus d'exposition est exact, avec un minimum d'erreurs et d'artefacts. TEL Mercury OC utilise également un actif de lithographie photomasque très sensible et fiable afin de transférer avec précision des motifs complexes sur la résistance. Le modèle est en mesure de manipuler avec précision une variété de matériaux de résistance tels que la résistance positive et négative, les résistances organiques et inorganiques, ainsi que les résistances gravées par voie sèche et humide. Il peut également accueillir un large éventail d'épaisseurs et d'éclairages, offrant des expositions précises et ajustées. L'équipement d'OC au mercure offre également une flexibilité en termes de dimensions critiques, ce qui permet d'atteindre un large éventail de dimensions critiques. Cette capacité est essentielle pour une description précise, car la profondeur d'exposition fournie et la capacité de gérer les dimensions critiques sont essentielles pour les processus de lithographie haute performance. La technologie offre également un contrôle de processus supérieur, qui est obtenu en utilisant un mécanisme de contrôle et de contrôle de processus avancé, combiné à un système de micropositionnement précis. Ainsi, le processus d'exposition se déroule en douceur et permet d'obtenir les motifs précis souhaités, à grande vitesse et à rendement élevé. Enfin, l'unité est également équipée d'une technologie d'automatisation avancée, permettant des opérations de production fiables, peu coûteuses et à haut volume. En outre, il est équipé d'une interface utilisateur intuitive, ce qui le rend facile à utiliser et nécessite un minimum de temps de formation et d'installation. En conclusion, TOKYO ELECTRON Mercury OC photoresist machine est un outil de lithographie très avancé qui permet une production précise, à haut rendement et peu coûteuse à des vitesses élevées. Il offre un contrôle supérieur des processus, une flexibilité dans les dimensions critiques et des expositions précises, ce qui en fait un outil précieux pour la lithographie dans presque toutes les industries.