Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9233651 à vendre en France

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ID: 9233651
Taille de la plaquette: 5"
Spray processor, 5" Single cassette, 5" Diameter, 14" A182-50MB Rotor / Turntable 5” Fed from central chemical distribution set up No separate chemical carts with chemical canisters.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mercure OC est un outil de haute précision utilisé pour déposer couche sur couche un matériau précisément dimensionné et appliqué avec précision sur un substrat spécifié afin d'évider ou de façonner proactivement la surface. Le système est applicable à la R-D et à la fabrication à l'échelle pilote pour diverses procédures de micro-fabrication dans les secteurs du MEMS, des semi-conducteurs et des industries connexes. Les fonctions standard de l'unité FSI Mercury OC sont d'enrober avec précision un substrat avec un matériau photorésist, et de définir précisément le motif ou le profil du motif photorésist à l'aide d'un outil d'exposition au contact ou de l'outil d'écriture série directe trouvé dans la machine. Le procédé de dépôt de photorésist est typiquement utilisé dans la fabrication de circuits électroniques et la production ou le prototypage de dispositifs optoélectroniques. L'outil d'exposition au contact est chargé de créer les motifs d'imagerie précis qui sont déterminés par les réticules prédéfinis utilisés dans l'outil. Selon les réticules utilisés, des modèles de performance plus élevés peuvent être créés, permettant ainsi des caractéristiques avancées telles que des rapports d'aspect plus importants, des formes non rectangulaires, des microstructures 3D et des largeurs de lignes plus fines. Le procédé d'écriture série directe utilisé par TEL Mercury OC consiste à moduler l'énergie d'exposition à travers la surface de balayage afin d'obtenir différents modèles d'imagerie pour le tournage de films. La performance globale de l'actif Mercure OC est encore améliorée grâce à l'utilisation d'un modèle de vide turbo-pompe qui permet une uniformité de dépôt supérieure, des vitesses de processus plus élevées et un contrôle précis de l'épaisseur du film. En outre, TOKYO ELECTRON Mercury OC dispose également d'un équipement de refroidissement et de contrôle de l'humidité qui permet des processus plus précis et répétables. En tant que système photorésist complet, FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC photorésist fournit des capacités de mesure de haute précision à une variété d'industries. La machine est conçue pour une haute efficacité énergétique et un traitement précis, ce qui en fait un choix de premier plan dans la fabrication de dispositifs MEMS, semi-conducteurs et optoélectroniques.
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