Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9030479 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury est un équipement de photorésistance conçu pour exposer avec précision la lumière UV et visible sur les semi-conducteurs et autres matériaux avec une grande précision. Il dispose d'un système d'exposition ultraviolet très fiable avec une excellente consistance qui peut être utilisé pour divers substrats. Il a également des fonctions d'alignement laser, en plus d'un étage mobile pour effectuer des analyses précises et intensifier/diffuser. FSI Mercury utilise High Precision Spin Coater, qui permet un revêtement précis et uniforme des photorésistes sur le substrat. Cette unité comporte des caractéristiques particulières, telles qu'un contrôleur de vitesse de rotation et de température variables - par exemple pour le chauffage du substrat avant filage. L'étage de wafer couplé avec le spin coater a une capacité de 200mm wafers. La source lumineuse DUV (Deep Ultraviolet) de TEL Mercury est spécialement conçue pour atteindre des niveaux élevés de précision d'exposition et offre une large gamme de caractéristiques, y compris une machine de réglage de densité optique pour une exposition uniforme. Son outil de positionnement garantit que les cibles d'exposition sont exactement alignées pour les résultats les plus efficaces. La source lumineuse de mercure a également une fonction d'obturateur, conçue pour réduire la diaphonie entre les systèmes d'exposition. Avec le capteur d'image CCD au bas de l'actif, cela garantit une exposition claire et répétable. Le régulateur à 3 axes et la table d'auto-nivellement fournissent en outre une base stable pour l'exposition sans être gêné. En outre, TOKYO ELECTRON Mercury dispose d'un modèle de contrôle sensible et précis pour le balayage et le balisage. Il permet de modeler rapidement en taille et en forme, permettant la production efficace et précise de motifs sur puce. Dans l'ensemble, FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury est un équipement de photorésistance précieux et efficace pour les processus de photolithographie et de numérisation. Il permet une exposition précise et fiable des motifs, avec un contrôle supérieur et une large gamme de caractéristiques. Ce système est un outil fiable pour fournir des résultats de haute qualité et est idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et de photomasques.