Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9065484 à vendre en France

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ID: 9065484
Taille de la plaquette: 6"
Material handling system, 6" Electrical cabinet STAUBLI Electrical control cabinet.
FSI MERCURY est un équipement de photorésistance de pointe. Les photorésistes sont utilisés pour protéger ou exposer sélectivement des zones à base de silice ou d'autres types de surfaces optiques pour former des composants optiques intégrés. Le MERCURE est une photorésist à faisceau protonique avancé thermiquement stable avec stabilité et résolution du faisceau d'électrons. Le système photorésist FSI MERCURY se compose de quatre composants : une chimie de formulation à deux couches, un revêtement planarisant à deux couches, un revêtement de rigidification à deux couches tournées après exposition et un revêtement diélectrique à deux couches pour améliorer la réflectivité. La chimie de formulation se compose de deux ingrédients principaux : le photoinitiateur et la formulation de résistance. Le photoinitiateur produit les espèces réactives essentielles à la formation de la résine, tandis que la formulation de la résine agit comme un liant qui détermine les caractéristiques de la photorésist. En contrôlant la concentration de ces deux ingrédients, on peut obtenir la résolution souhaitée de la résine photosensible. La couche supérieure planarisante à deux couches crée une surface plane et plane lors de l'exposition à la résine photosensible. Cette couche améliore la résolution et la fidélité du motif photorésist. Le revêtement de rigidification par spin-on après exposition à deux couches augmente l'effet de planarisation de la couche supérieure et augmente le photo-durcissement de la résine photosensible et fournit également des effets de planarisation supplémentaires. Le revêtement diélectrique inter-couches à deux niveaux améliore la réflectivité de la couche photorésistante à motifs, augmentant la précision des composants optiques. L'unité de photorésistance MERCURE a une excellente résolution et fidélité de motif et permet une exposition submicronique à la photorésist. Il présente un faible coefficient d'absorption et un faible facteur de gravure et convient parfaitement pour diverses applications telles que les circuits optiques intégrés complexes et la micro-optique. La photorésist FSI MERCURY est robuste et thermiquement stable, ce qui la rend bien adaptée aux applications industrielles. Il a également une excellente adhérence et résistance à la gravure, ce qui le rend idéalement adapté pour la fiabilité et la répétabilité à long terme. L'outil photorésist MERCURY est économique et offre stabilité et fiabilité, ce qui le rend idéal pour les dispositifs optiques intégrés avancés.
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