Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073572 à vendre en France

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FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury
Vendu
ID: 9073572
Chemical delivery system.
FSI MERCURY est un équipement de photorésistance utilisé dans le processus de photolithographie pour la fabrication de circuits intégrés. C'est une technologie de résistance très avancée utilisée dans la production de très petits composants, tels que ceux que l'on trouve sur les circuits intégrés actuels. La photolithographie est un procédé utilisé pour transférer un masque à motifs sur un matériau semi-conducteur. Cette technique utilise des produits chimiques sensibles à la lumière pour créer de très petits motifs à la surface. Le système photorésist MERCURE est l'une des technologies de résistance les plus avancées utilisées dans la production de dispositifs microélectroniques. L'unité de photorésistance FSI MERCURY est composée de deux matériaux principaux ; un monomère photopolymérisable et un photolinker. Lorsque le monomère traverse une étape de pré-exposition et est exposé à la lumière UV, il forme un film photopolymérisable à la surface du substrat. Ce film est ensuite relié par le photolinker pour créer une image permanente. Le monomère photorymérisable contient une structure chimique qui lui permet de réticuler avec le photolinker, ce qui crée à son tour un motif permanent à la surface du substrat. Une fois que le monomère photopolymérisable est combiné avec le photolinker et que le motif est formé sur la surface du substrat, la machine MERCURY peut alors fournir la plus grande uniformité et performance d'imagerie couche à couche possible. Cet outil produit une définition exceptionnelle et fournit une excellente résolution et fidélité de ligne pour les applications avec de très petites structures. L'actif photorésist FSI MERCURY offre un très large éventail d'avantages, y compris un très faible coefficient de dilatation thermique, une viscosité pratiquement nulle et un taux de gazage très faible. Il offre également une durée de conservation élevée et des temps d'exposition rapides. De plus, il offre des niveaux d'adhérence et de transparence très élevés et possède une capacité exceptionnelle à résister aux fissures et aux levages. Tous ces attributs font du modèle photorésist MERCURY le choix idéal pour les fabricants de circuits intégrés. En conclusion, l'équipement photorésist FSI MERCURY fournit un certain nombre de qualités complémentaires telles que des temps de séchage rapides, un faible coefficient de dilatation thermique, une excellente définition de l'imagerie et un haut niveau d'uniformité couche à couche. Tous ces avantages font du système photorésist MERCURY une technologie de résistance très avancée, et un outil indispensable pour la production de circuits intégrés.
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