Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073573 à vendre en France

FSI MERCURY est un équipement de photorésistance conçu pour permettre la gravure précise des caractéristiques micro et nanométriques sur les plaquettes de silicium couramment utilisées dans l'industrie de la microélectronique. La technologie photorésist consiste à exposer un type de film photosensible, connu sous le nom de photorésist, à un motif précis à base de lumière afin de créer des motifs ou des caractéristiques précis sur des substrats semi-conducteurs dans les procédés de fabrication de photolithographie. MERCURE est un ajout à la gamme de produits FSI, conçu pour permettre la production de caractéristiques plus avancées et complexes que d'autres produits FSI. Le système utilise le laser direct, qui a une taille de focalisation inférieure à 10 μ m afin de créer des motifs avec une précision allant jusqu'à 0,1 μ m - fournissant une résolution supérieure lors de la gravure de motifs complexes micro et nanométriques. L'unité dispose d'une machine chimique unique qui permet des temps de gravure plus rapides par rapport à d'autres produits photorésistants - réduisant le temps et le coût associés à la gravure des faisceaux d'électrons. L'outil chimique, associé à une résolution supérieure, permet également de produire des lignes étroites sans présence de dépassement de bord, ce qui signifie que le processus de découpage est extrêmement précis, avec un minimum de défauts. FSI MERCURY dispose également d'une faible absorption d'eau avec une excellente durée de conservation, et a une large gamme d'exposition. Le modèle fonctionne également bien avec de multiples procédés complémentaires, y compris le traitement de l'ozone et du plasma, qui peuvent aider à optimiser la sélectivité entre la couche de résist et de TKW (thermo-cétone watersoluble). L'équipement est également très fiable, avec un record de temps d'arrêt minimal, ce qui signifie que les processus de production sont cohérents et efficaces. Dans l'ensemble, le MERCURE est un produit photorésistant avancé qui permet la gravure de motifs micro et nanométriques avec un niveau supérieur de précision et de résolution. Le processus de gravure est raccourci grâce à l'unité chimique avancée du système, et le produit possède d'excellentes propriétés de stockage et un temps d'arrêt minimal, le rendant parfait pour une utilisation dans l'industrie de la microélectronique.