Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9187823 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury est un équipement de photorésistance conçu pour offrir le plus haut niveau de précision et de fiabilité. Ce système combine les techniques les plus récentes de lithographie et d'imagerie avec la conception d'unités optiques avancées pour permettre aux utilisateurs de modéliser les fonctions submicroniques sur une variété de substrats. Il offre une précision, une pureté et une répétabilité supérieures pour la formation de rainures en V et de tranchées précises dans un large éventail de matériaux. Le cœur de la machine est une lampe d'image FSI Mercury qui émet de la lumière ultraviolette en bande étroite. Une combinaison de filtres mélange alors cette lumière dans les longueurs d'onde optimales pour le développement de la résine photosensible. Le spectre lumineux optimisé permet à la résistance de guérir rapidement tout en conservant une intensité optimale. L'outil de photorésistance utilise alors un atout optique binaire à balayage laser à haute résolution avec un facteur de grossissement de neuf pour exposer des motifs avec des détails fins. En plus d'une précision d'alignement répétable de ± 2 µm, ce modèle peut atteindre des tailles de pas aussi petites que 0,5 µm. L'équipement conçu est également livré avec une étape de placement de plaquettes et des caractéristiques de sécurité avancées. La scène offre un angle d'inclinaison de 45 ° pour un réglage précis des caractéristiques de contact et un excellent contrôle des profils de résistance. De plus, un film antireflet est inséré entre la source lumineuse et le substrat pour réduire la diffusion, assurer un éclairage satisfaisant même sur des surfaces non idéales et éviter la surchauffe de la scène. Enfin, un verrouillage de sécurité est installé dans le système pour s'assurer que l'exposition aux UV n'est déclenchée qu'une fois que la machine est dans un état stable et sûr. TEL Mercury photoresist unit s'est avéré extrêmement fiable dans la production de motifs de photorésist avec la plus grande précision. Il peut être utilisé pour modeler des caractéristiques ultra-petites sur une variété de substrats, garantissant des résultats précis et reproductibles. La combinaison de l'optique avancée, des caractéristiques de sécurité et des étages inclinables en fait également un choix idéal pour une large gamme d'applications photorésistantes.