Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9271575 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Le mercure est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. C'est un outil de lithographie avancé utilisé pour créer et transférer des motifs à haute résolution en gros volumes sur des plaquettes. La photorésist est un matériau sensible à la lumière utilisé en photolithographie comme milieu d'exposition pour créer des motifs. Le système FSI Mercury se compose d'un dispositif de balayage pour l'impression, du revêtement photorésist et de l'unité d'exposition, du processus de nettoyage et de cuisson, et de la machine de post-traitement. Le dispositif de balayage utilise un laser à forte puissance pour créer des motifs nanométriques à la surface de la plaquette. La machine de revêtement photorésist est utilisée pour appliquer une fine couche de matériau photorésist sur la plaquette avant la création du motif. Lors de l'exposition, le faisceau laser est appliqué sur la plaquette selon un motif spécifique pour créer la forme désirée. Le processus de nettoyage et de cuisson est ensuite utilisé pour durcir la couche de matériau photorésist traitée et éliminer les débris. Enfin, l'outil de post-traitement est utilisé pour le développement ultérieur du motif. TEL Mercury est conçu pour être très fiable et peut fonctionner à des vitesses élevées. Il est également capable de produire des images haute résolution avec des motifs précis et la répétabilité. Cela le rend idéal pour les processus à haut volume et réduit les déchets grâce à la précision de l'outil. Le modèle peut également être facilement réparé et automatisé pour une plus grande efficacité. En outre, l'équipement est bien adapté aux procédés avancés de photolithographie tels que le double balisage, l'exposition multiple et la lithographie sans masque. TOKYO ELECTRON Le système Mercury est un outil puissant pour des processus de photolithographie compliqués. Il fournit un outil fiable pour le transfert d'image haute résolution, ce qui augmente l'efficacité et réduit les déchets tout en fournissant la précision et la répétabilité requises pour la lithographie. Ses caractéristiques avancées peuvent être utilisées pour augmenter la production et réduire les coûts, ce qui en fait un excellent choix pour la fabrication de semi-conducteurs.