Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Orion #9384177 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Orion est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour la lithographie qui utilise la lumière pour créer des motifs sur un substrat. Ce système utilise une source lumineuse telle qu'un laser excimère à fluorure d'argon (ArF) ou un laser à diode pour transférer des motifs sur un substrat. Le transfert est rendu possible par la manipulation de l'intensité de la lumière. Le substrat est composé d'un matériau radiosensible appelé photorésist, sensible à certaines longueurs d'onde de la lumière. Cette unité est en mesure de créer des caractéristiques avec précision et précision grâce au contrôle de l'intensité lumineuse. La machine comprend un ordinateur hôte, une enceinte inerte ou sous vide, un agent de revêtement photorésist, une unité de débit de gaz et une optique d'exposition. L'ordinateur hôte exécute une commande logique programmable (PLC) dédiée à la surveillance des composants de l'outil. Il est capable d'exécuter des patrons et des scripts de recettes basés sur l'entrée de l'utilisateur et permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres en temps réel. L'enceinte inerte ou sous vide permet la manipulation de l'environnement autour du substrat pour une exposition plus précise de la résine photosensible. L'agent de revêtement photorésist est responsable du dépôt de la photorésist sur le substrat. Il est délivré par une buse qui délivre les gouttelettes de photorésist sur le substrat. L'unité de débit de gaz est chargée de fournir un gaz inerte, tel que l'azote ou l'argon, pour le fonctionnement de l'actif. La partie optique d'exposition du modèle contient la source lumineuse et l'optique de focalisation pour contrôler l'intensité de la lumière. L'équipement est capable de créer des structures de dimensions aussi petites que 0,05 microns. Ce système est idéal pour créer des composants micro-électroniques ou semi-conducteurs. Il est également utilisé pour la recherche et le développement de MEMS (systèmes microélectromécaniques). La précision de la formation du motif est obtenue en contrôlant l'intensité de la source lumineuse. L'utilisateur peut également ajuster les conditions de cuisson post-exposition pour améliorer encore la résistance photosensible. FSI Orion est une unité avancée capable de fournir des motifs précis sur un substrat pour différents types d'applications de lithographie.