Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury #293640260 à vendre en France

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ID: 293640260
Taille de la plaquette: 6"
6".
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury est un équipement de photorésistance conçu pour être utilisé dans diverses applications de traitement de matériaux. Ce système photorésist permet le dépôt rapide et répétable de couches minces de haute qualité et répétables dans un large éventail de matériaux. FSI PFA Turntable for Mercury utilise un mécanisme unique « Lift and Push » pour déposer des films minces sur des substrats, éliminant la nécessité d'une manipulation manuelle complexe des échantillons. Ce mécanisme permet d'appliquer la photorésist de façon uniforme et avec une grande précision, tout en contrôlant l'épaisseur de la photorésist. L'unité utilise un étage de sortie à trois canaux, permettant de régler l'épaisseur du film et les niveaux d'énergie de dépôt. Outre le dépôt de couches minces, la machine permet un traitement rapide par lots de plusieurs échantillons en utilisant les mêmes réglages photorésistants. Cela ajoute de la valeur à l'outil et augmente l'efficacité. TEL PFA Turntable for Mercury suit également ses conditions de traitement en temps réel et stocke des données pour une analyse plus approfondie. PFA Turntable for Mercury est équipé d'une lampe à mercure qui fournit une large gamme de longueurs d'onde pour l'irradiation et un atout optique avancé pour la focalisation nette du faisceau de mercure. Le choix de la lampe à mercure utilisée dépend des matériaux traités, permettant le dépôt de couches minces sur mesure de meilleure qualité et répétabilité. TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury est également équipé d'un modèle sous vide qui évacue du substrat toutes les traces restantes de photorésist et d'autres matériaux volatils, conduisant à un dépôt propre, voire même des matériaux désirés sans formation de trou d'épingle. En conclusion, FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PFA Turntable for Mercury est un équipement de photorésistance fiable qui fait un travail court de la tâche de dépôt de couches minces. Avec son mécanisme intuitif « Lift and Push », son suivi des données en temps réel et sa lampe à mercure pour les options d'irradiation, ce système photorésist offre une précision, une cohérence et une répétabilité inégalées, ce qui en fait un excellent choix pour toute application de traitement de matériaux.
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